中国首台国产浸没式DUV光刻机测试，突破美国芯片封锁关键一步好消息！国产机器重大

烨华聊商业 2025-09-26 08:28:43

中国首台国产浸没式DUV光刻机测试，突破美国芯片封锁关键一步

好消息！国产机器重大进步。根据美国科技媒体Tom's Hardware分析，若《金融时报》描述准确，宇量昇正在测试的浸没式DUV系统类似于ASML在2008年推出的Twinscan NXT 1950i。

目标是28nm，但是多重曝光能做7nm。伯恩斯坦半导体分析师Lin Qingyuan表示：“成功的话将是中国企业重要一步，可以此为基础发展更先进设备。但要让原型机投入量产，还需要数年时间。”

这里是说还有个量产问题，要数年时间。相信我们进度不会慢，2028年量产28nm一定可以做到！重大胜利很快就要来了！

0 阅读：556

评论列表

玖月♂飞龙在天

玖月♂飞龙在天

3
2025-09-26 11:52

七纳米早已量产了

灯芯做的眼晴

灯芯做的眼晴

2
2025-09-26 19:09

这真是绝了，保密工作真是做的相当相当好

流浪

流浪

1
2025-09-26 20:32

7nm是指用国产设备制造的芯片，而不是用荷兰设备做的

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烨华聊商业

烨华聊商业

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