“光刻机没有一个国家可以做得到，美国都造不出，中国根本做不到！”“中国永远都造不

“光刻机没有一个国家可以做得到，美国都造不出，中国根本做不到！”“中国永远都造不出光刻机？”去年，中国物理学教授朱士尧在一次采访中直言：“美国都造不出，中国永远也造不出来！”甚至认为世界上没有一个国家能造出光刻机。 说“没有一个国家能造出光刻机，美国造不出中国更没戏”，这种说法其实太片面了，压根没搞懂光刻机这东西的真实门道，光刻机可不是普通家电，它是全球工业链条拧成的“超级综合体”，单靠任何一个国家都玩不转，这跟“造不出”是两码事。 荷兰ASML能造出最先进的EUV光刻机，但这可不是荷兰一家的功劳，那台机器里装着十万多个零部件，得靠全球五千多家供应商一起凑齐。 德国蔡司的光学镜头负责把光路校准到纳米级精度，像差控制得比高端单反镜头严一百倍。美国Cymer提供的光源占了整机成本的近三成，那种13.5nm波长的极紫外光技术至今仍是核心壁垒。日本的特殊材料和英国的真空系统也各占一席之地，缺了哪块都没法组装出能用的设备。 所以说“没有国家能造出”不算错，但这是技术协作的必然结果，不是各国能力不行。 再说说美国这边的情况，说美国造不出光刻机更是误解，美国只是没走整机集成的路子，反而在核心技术上握着不少王牌。 2025年刚有消息，美国初创公司Substrate融了1亿美元，搞出了基于粒子加速器的X射线光刻设备，分辨率能跟ASML的2纳米级EUV掰手腕，还宣称能把晶圆成本降到十分之一。 要知道ASML的EUV光源长期依赖美国技术，而且美国应用材料、泛林半导体这些企业，本身就是半导体设备领域的巨头，只是没往整机方向发力而已。人家不是造不出，是战略重心不在这。 最关键的是中国的进展，“永远造不出”这种话早就被现实打脸了，上海微电子2025年在工博会上直接亮出了EUV投影微场曝光装置，虽然还在概念验证阶段，但已经迈出了从0到1的关键一步。 更实在的是DUV光刻机的突破，他们的600系列早就实现90nm制程量产，28nm浸没式机型也在跟中芯国际紧锣密鼓地测试。根据21世纪经济报道的现场报道，另一家上海公司宇量昇的DUV设备已经能通过多重曝光技术试产7nm甚至5nm芯片，这可不是纸上谈兵。 产业链的跟进速度更能说明问题。江丰电子研发的多层钛合金冷却部件，专门适配28nm以下节点的光刻机，现在已经进入量产阶段，直接切入了核心部件供应链。富创精密、蓝特光学在反射镜、场镜这些光学元件上的突破，让核心元器件的国产化率提升到了35%，比去年翻了近一倍。 光刻胶、电子特气这些材料也没掉链子，ArF/KrF高端光刻胶的国产化率突破30%，配套的显影液、特气已经能自主供应。中国报告大厅的数据显示，2025年国产光刻机的市场占有率已经升到12%，虽然跟海外巨头还有差距，但这个增长速度已经很能说明问题。 当然不能否认，高端EUV的突破还有硬仗要打，13.5nm极紫外光源、超精密工作台这些“卡脖子”的地方，国内企业还处在原理样机阶段。ASML最新的NXE:4600EUV设备也因为出口管制，短期内没法进入中国市场。 但把这些挑战说成“永远造不出”，显然低估了技术迭代的速度和产业协同的力量，国家给的研发补贴已经提至20%，A股四十多家企业扎进这个赛道，光芯碁微装一家就拿到十多家机构的投资推荐。 朱士尧教授去年说那番话的时候，可能还没看到2025年这波密集的技术突破，光刻机这东西从来不是“要么造得出要么造不出”的二元题，而是“多快能造出来、能造到什么水平”的渐进式挑战。 美国在新技术路线上发力，中国在成熟制程和产业链上突围，荷兰ASML靠着全球协作维持优势，这本身就是技术竞争的正常生态。说“永远造不出”的人，大概忘了工业领域从来没有“永远”，只有“正在发生”的突破。