年初，美国与日本以及荷兰达成了一项三方协议，进一步加强了对中国科技产品的进出口限制。这一系列协议一旦彻底实施，将会让美国几乎封锁中国获取进口光刻机的一切途径。而光刻机可谓是制造芯片不可或缺的工具之一，由于很多国家在光刻机精度方面的研发水平相对较低，因此，包括中国在内的众多国家主要依赖进口这些关键设备。

如今在三方协议的影响下，日本早已开始限制23种半导体产品的出口，而荷兰也表示将与美国密切合作，限制相关半导体设备的出口。这项政策于9月1日生效，主要针对2000i等后续型号的光刻机出货。美国的阴谋似乎正在逐渐成为现实。

然而，美国却未曾料到，这一禁令不仅未能阻止企业前进的步伐，反而增加了他们向中国出口商品的数量！

据最新消息，荷兰方面宣布，将向ASML公司颁发延期许可证，允许他们继续出售TWINSCAN NXT: 2000i及其后续推出的浸润式光刻系统，将许可期延长至2024年1月1日。这无疑是在正面迎击所谓的“三方协议”！

ASML公司之所以急切争取这张许可证，背后只有一个原因，那就是中国市场的巨大诱惑力，他们无法承受失去这一市场带来的后果。早在“三方协议”内容公开后，ASML就公开表示，更加看重中国市场的商业价值，承诺在政策干预之前积极向中国销售产品。

中国市场已经成为ASML的第三大市场，未交付的光刻机订单中，有20%来自国内厂商，订单总额超过600亿元。如果失去这些订单，将给他们的工厂带来严重冲击。目前，全球科技进步的步伐已经放缓，光刻机的需求量已经比之前产生了大幅下降，而中国市场却因其呈现出蓬勃发展的姿态，一直对光刻机保持着强烈的需求。

ASML公司报告称，全世界范围内新增光刻机订单数量下降了40%，然而中国厂商对光刻机的需求却不降反增，仅第二季度，ASML就向国内出售了27台光刻机，但这也仅仅只满足了中国市场50%的需求。所以在目前陷入困境的ASML看来，中国市场是他们最大的救星。

为了表现出诚意，ASML公司迅速计划增加了进口中国机器的数量，并且将开放超过200个职位，包括客户支持工程师、软件开发工程师以及其他职能部门。这一举措旨在挽留中国这位重要的客户。

然而，在中美竞争的大背景下，中国早已认识到，单靠外部供应不足以保障稳定发展。因此，除了积极引进光刻机等高精尖仪器外，中国也在积极自主研发。毕竟，只有掌握了技术，才能真正拥有自主权，尤其是在美国限制光刻机出口后，激发了中国更加强烈的创新热情。

据最新消息，自从华为遭受了制裁以来，中国在自主研发领域取得了不可小觑的进展，每一步都是坚实的脚印，每一项成就都令人自豪。

特别是在光刻机领域，中国取得了令人瞩目的突破。上海微电子已成功验证了28纳米精度的光刻机技术，国内产业链也已具备打造DUVi光刻机的能力，这款光刻机适用于7纳米工艺。这一成就标志着中国在半导体制造领域正以坚实的步伐赶超国际先进水平。

更令人振奋的是，中国为了吸引科技人才，保持着非常开放的姿态。中国的半导体行业始终将人才视为最宝贵的资源，秉持着以人为本的理念，借鉴了世界半导体行业领先地区的人才培养模式，不断创造着最适宜和最吸引人才的工作和生活环境。

不论国籍是什么、来自哪里，我们都一视同仁，只看能力。中国向来自欧洲、日本等国家和地区的人才敞开大门，鼓励他们以各种方式为中国半导体行业的发展做出贡献。中国正在以自己独特的方式逐渐迎头赶上美国在科技领域的领先地位。

目前，光刻机的生产技术主要由荷兰的ASML、日本的尼康和佳能公司垄断。然而可预见的是，这样的技术垄断终究会有被打破的一天。不久的将来，中国有望突破这一技术垄断，摆脱对国外的依赖。届时，不管是友好国家还是竞争对手，其他国家的政策都将无法束缚中国科技发展的步伐。

ASML也清楚，不论再延长多久时间，他们的光刻机都将从中国芯片行业的必需品，降为可供选择的方案之一。或许正是因为担心“三方协议”会让中国实现完全自主研发，导致失去最大的客户之一，ASML才不得不申请延期许可，继续出售光刻机。

然而，我们双方都清楚，这种平衡迟早会被打破。中国的科技走向已经不可阻挡地走出国门，走向世界。这一不可逆转的趋势将进一步推动中国在全球科技竞争中崭露头角，实现更大的发展和突破。