金融界2024年11月16日消息，国家知识产权局信息显示，上海至临半导体技术有限公司取得一项名为“一种用于超临界清洗的湿法设备及其工作方法”的专利，授权公告号CN114068365B，申请日期为2021年11月。
本文源自：金融界
上海至临半导体取得一种用于超临界清洗的湿法设备及其工作方法专利
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