光刻机是芯片制造中的核心设备，由于其工艺难度大，并且对工艺要求极高，所以长期以来我国在光刻机领域发展较慢，虽然我国已经开始批量生产光刻机，但与 ASML还有一定的差距。近日有媒体报道称，中国第一台自主研发的 EUV光刻机核心部件近日被攻破了！
据悉，此次被攻破的零部件是用于生产光刻机的光学镜头，这是整个光刻机中最核心的部分。此前我国已经在研发5纳米以上的芯片上取得了一定进展，但是距离 EUV光刻机的要求还有些距离。不过好在这次中国终于突破了 EUV光刻机核心部件的技术难关，这对于我国芯片发展具有重要意义。
一，中国第一台 EUV光刻机
EUV光刻机是半导体生产中最核心的设备，其工艺难度极高，使用的技术也是全球顶尖。不过 EUV光刻机目前仅有 ASML一家掌握，而且 EUV光刻机也被视作“芯片皇冠上的明珠”，全球能生产 EUV光刻机的国家和公司屈指可数。
此前 ASML已经占据了全球大部分的 EUV光刻机市场，不过随着我国不断加大对 EUV光刻机的研发投入，现在我国也已经具备了批量生产 EUV光刻机的能力。
2022年初我国就有一家企业获得了 ASML最新型号的 EUV光刻机，并开始批量生产，这也是中国首次在国内企业手中获得生产 EUV光刻机的能力。此次成功攻破核心部件后，意味着中国芯片制造又向前迈进了一步。
中国掌握了核心技术
我国在光刻机领域虽然起步较晚，但一直在努力追赶，经过多年的积累，我国终于在光刻机核心部件上取得了突破，这对于我国芯片发展具有重要意义。
首先是由于光刻机是制造芯片的核心设备，所以我国一直在努力研发光刻机领域，并且在关键技术上取得了突破，这对于我国芯片发展具有重要意义。
荷兰 ASML的 EUV光刻机
虽然我国已经取得了一定的进展，但是和 ASML还是有一定的差距，所以想要短时间内赶超 ASML难度非常大。不过好在我国并没有因此放弃，而是继续研发新的技术，终于在近期取得了突破性进展。
据外媒报道称，我国已经研发出了第二台 EUV光刻机，并且这台光刻机还打破了一项技术壁垒，在此之前 EUV光刻机是被 ASML所垄断的。据悉这台 EUV光刻机是由我国南京半导体装备公司和北京科华微电子公司联合研发而成的。
虽然目前还不能完全实现国产化，但是相信随着时间的推移，我国会一步步地实现国产 EUV光刻机的生产制造。
ASML的技术优势
ASML作为全球光刻机行业的龙头企业，其实力自然不容小觑。而 ASML能够做到这一点，除了自身技术实力雄厚之外，还与其主要供应商有着密不可分的关系。
ASML的主要供应商之一是德国蔡司公司，而蔡司公司在光学领域具有绝对优势，同时也是全球最大的蔡司镜头生产厂商。ASML因此能够在光刻机核心部件上取得突破，由此可见其在技术领域的强大实力。而我国作为全球最大的芯片市场，我国也非常需要像 ASML这样的企业。
结语
中国芯片发展一直受到美国的制约，这使得我国在芯片制造领域的发展受到了一定的限制，此次中国首台 EUV光刻机核心部件的突破，对于我国芯片的发展具有重要意义，同时也向世界证明了中国人完全能够实现高端芯片的制造。
