针对“宝岛问题”，美国官员前不久向ASML表达了担忧，而ASML的回答瞬间震惊了业内，称“有能力远程操控台积电的光刻机”。这意味着，即便我们强行登岛，也可能无法获得先进芯片制造技术，毕竟ASML已明确表示，他们（美西方）有随时摧毁台积电的能力。

至于大陆市场，在美日荷制定三方协议后，想要从海外获取高端EUV光刻机也几乎没有任何可能，以后甚至连中低端光刻机的进口估计也会成为奢望。

如今摆在中国芯片产业面前的只有两条路，一个是加大研发投入，沿着西方半导体的发展逻辑，集中精力攻克光刻机设备等技术壁垒。另一个则是开辟“新赛道”，创新出一种能够绕开光刻机的造芯方式，以实现“弯道超车”，如碳基芯片等。

事实上，硅基芯片在迭代到3nm节点的时候就已经开始逼近物理极限了，若盲目的使用EUV追求更高工艺，成本将无法控制，进而会偏离商业轨道。正因如此，不只是国内市场，很多海外地区也都在研发新的造芯方式。

截至目前，最有机会绕开EUV光刻机的，非日本佳能的纳米印压（NIL）光刻机技术莫属。它能够直接把电路图案精准的印在晶圆板上，理论上可用于5nm芯片制造，且能够大幅降低生产成本。最关键的是，相比ASML动辄3.5亿欧元一台的0.55孔径NA EUV光刻机，佳能的设备价格不足其十分之一。

可以这么说，一旦佳能的设备实现落地应用并获得市场认可，那么ASML的光刻供应将不再是唯一选择，尤其是中国市场，在光刻机设备供不应求且ASML无法自由出货的情况下，我们完全有机会通过佳能的设备来摆脱困境。

当然，一款新设备，尤其是制造芯片的核心设备，从验证到商用，几乎都需要大量的时间积累。正因如此，很多人并不看好ASML的光刻机霸主地位会在数年内被动摇。然而，日本半导体近期却突然传出了一则重磅消息，不仅ASML没料到，国内很多网友也都对此口吐芬芳。

据日媒报道，佳能针对纳米印压（NIL）光刻机已经制定了初步量产计划，将正式与ASML在尖端光刻机领域展开竞争。不过，佳能并没有把重心放在中国，而是把NIL光刻机设备的“首站”放在了印度市场，且目前正在与印度公司洽谈详细的合作方案。

除了印度本土企业之外，其他在印度投资的厂商，也在佳能的合作名单之内，如台湾省PSMC等厂商。值得一提的是，佳能还宣布未来将会进一步加深与印度在半导体建设方面的投资，以促进印度电子制造产业的发展。很显然，日本佳能公司“押码”印度市场并非是一时头脑发热，而是“铁了心”要大干一场。

按照正常逻辑，中国拥有全球最大的半导体消费规模和成熟的制造业体系，在ASML被限制对中企出货的情况下，佳能可以说迎来了取代ASML、实现“名利双收”的最佳时机。而且它此前也多次表示要大规模投资中国市场，可为何如今突然又“变脸”了呢？

这不禁让人想起了80年代日本东芝的遭遇，只是因为“不听话”、动摇了美国科技“霸权”地位，便被揍的到现在还没缓过气来。在“芯战”关键阶段，连ASML都妥协了，佳能又怎么敢忤逆老美的“旨意”。再者，美、日、荷三方协议已经生效，佳能即便有心对大陆市场提供NIL光刻机，恐怕也得不到出货许可。

事实证明，人民日报说得很对，核心技术是买不来、换不来、求不来的。无论ASML也好、佳能也罢，这些海外企业终是靠不住的，我们不该抱有幻想。中国芯的崛起之路没有捷径，唯有自主创新！

庆幸的是，在经历被美芯“卡脖”后，国内已认识到了“手中有粮”的重要性，很多中企都从“坐地而联想”的观念走了出来，开始“奋起而华为”。与此同时，国家近些年也在扶持半导体产业，斥资3440亿元的大基金三期已经成立，将集中优势科研力量攻关光刻机等关键技术。

以中国科学家的智慧，可以预见，中国芯的崛起只是不太久的时间问题。即便光刻机的研发工作再复杂，难道还会比“两弹一星、国际空间站”更难？