半导体器件的失效分析及可靠性测试

芯片迷不休息 2024-11-25 09:06:37
半导体工程师 2024年11月24日 10:01 北京半导体器件的失效分析及可靠性测试

本文重要介绍半导体器件的失效分析及可靠性测试,分述如下:

失效分析概述

封装缺陷与失效

加速失效的因素

可靠性测试

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失效分析概述

失效分析实质是对器件的电特性失效采取分析手段,明确不良原因和机理,并提出预防措施和建议。

失效分析的手段

无损检查:利用射线穿透(如X-ray、3DCT)或超声扫描(如C-Scan、T-scan)等方法,不改变器件原始封装状态。

有损检查:(本文不作讲解)。

失效分析的重要性

为解决方案提供实验论据;为提高产品可靠性提供科学依据;从微观结构探索器件不可靠因素及其影响因素(如工作条件、环境应力和时间)。

常见失效表现

半导体器件常见的失效模式:开路、短路、无功能、特性退化(劣化)、重测合格和结构不好。

常见的失效现象:烧毁、漏气、腐蚀或断腿、环氧树脂裂纹、芯片黏结不良等。

失效现象的复杂性:一些失效现象不是孤立的,可能是多种因素综合作用的结果,需要系统分析。

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封装缺陷与失效

封装缺陷与失效的研究方法论

封装失效机理:过应力和磨损失效。

影响因素:材料、设计、环境、工艺等。

确定方法:试验、模拟仿真、物理模型法、数值参数法、试差法(但效率低、花费高)。

引发失效的负载类型

机械载荷:物理冲击、振动、应力、惯性力等,可能导致形变、断裂、分层、疲劳裂缝等。

热载荷:高温、预加热、成型工艺等,可能导致尺寸变化、CTE失配、局部应力、燃烧等。

电载荷:电冲击、电压不稳、电流波动、静电放电等,可能导致介质击穿、电压表面击穿、热损耗、电解腐蚀等。

化学载荷:腐蚀、氧化、离子表面树枝状结晶生长等,湿气是主要问题,可导致性能退化、失效等。

交互作用:不同类型载荷可能同时在塑封器件上产生交互作用,如CTE失配引起的机械失效、应力辅助腐蚀等。失效机理的综合影响不一定等于个体影响的总和。

封装体失效的分类

分层:

定义:塑封料在黏结界面处与相邻材料分离。

原因:水汽、湿气、温度及共同作用,水汽诱导分层主要由高温下水汽压力导致。

影响因素:无铅焊料回流温度高、吸湿膨胀系数、封装工艺不良等。

后果:为水汽扩散提供路径,是树脂裂缝的源头。

气相诱导裂缝(爆米花现象):

定义:封装体内水汽通过裂缝逃逸时产生的爆裂现象。

易发器件:大而薄的塑封形式、芯片底座面积与器件面积比大、芯片底座面积与最小塑封料厚度比大的器件。

伴随问题:键合球断裂、硅凹坑等。

减少方法:高温烘烤去除湿气,安全湿气含量约为1100×10-6。

脆性断裂:

发生材料:低屈服强度和非弹性材料(如硅芯片)。

原因:过应力作用,起源于微小缺陷(如空洞、夹杂物)。

韧性断裂:

发生材料:塑封材料,取决于环境和材料因素(温度、聚合树脂的黏塑特性、填充载荷)。

疲劳断裂:

定义:塑封材料在周期性应力作用下因累积疲劳而发生的断裂。

产生载荷:湿、热、机械或综合载荷。

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加速失效的因素

主要加速因子

潮气:加速分层、裂缝和腐蚀失效。影响塑封料特性,如玻璃化转变温度、弹性模量和体积电阻率。

温度:利用温度等级评估对封装失效的影响,与玻璃化转变温度、热膨胀系数及热-机械应力相关。改变封装材料属性、湿气扩散系数和金属间扩散。

污染物和溶剂性环境:提供失效萌生和扩展的场所。污染源包括大气污染物、湿气、助焊剂残留等。湿气和污染物扩散至金属部位引起腐蚀。

残余应力:芯片黏结产生单向应力,大小取决于芯片黏结层特性。模塑成型时产生较大应力。

自然环境应力:塑封料可能发生降解,如聚合键断裂。高温、密闭环境、紫外线和臭氧加速降解。

制造和组装载荷:高温、低温、温度变化、操作载荷等可能导致封装失效。爆米花现象是典型例子。

综合载荷和应力条件:在制造、组装或操作过程中,失效加速因子常同时存在,进一步加速失效。常用于加速试验设计,以筛选缺陷部件和鉴别易失效封装器件。

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可靠性测试

半导体器件在完成封装后,为了全面评估其长期稳定性和质量,必须进行一系列可靠性测试。这些测试旨在模拟器件在实际工作环境中可能遇到的各种极端条件,以确保其能在规定的时间内和规定的条件下,无故障地完成规定的功能。

常见的可靠性测试项目包括:

高温存储寿命测试(HTSL):在150℃的储存箱中不通电存储,分别在168h、500h、1000h后进行通电测试,并与常温下的特性值进行比较。

高温反偏测试(HTRB/GB):在150℃、80%湿度的条件下,对功率器件的基极或门极加载反偏电压,持续一段时间后读取电特性值。

高温工作寿命测试(HTOL):在125℃的储存箱内,对器件施加规范内的最高和正常工作电压,持续一段时间后读取电特性值。

高温、高湿度电测(THBT):在85℃、85%湿度的条件下,施加最小工作电压,持续一段时间后读取电特性值。

温度循环试验:在-65℃至150℃或-55℃至150℃的温度范围内进行循环,读取特定循环次数后的电特性值。

压力锅试验(PCT):将测试元器件封装体放入121℃的水容器中施加压力,持续一段时间后读取电特性值。

高温加速应力试验(HAST):在130℃、85%湿度的条件下,施加压力和反偏电压,持续一段时间后读取电特性值。该测试条件严苛,常用于快速检验产品可靠性。

在半导体器件封装的可靠性测试中,除了上述提到的几种常见测试项目外,还有一些其他测试方法和考虑因素,它们对于全面评估器件的长期稳定性和可靠性同样重要。

晶须生长测试(Whisker Growth Test)

目的:评估封装体引脚电镀层金属须的生长情况,以防止因晶须导致的短路或断路故障。

测试条件:通常将器件置于高温高湿环境中(如烘箱),持续数月至一年,以加速晶须的生长过程。

应用:特别适用于引脚间距小或电流密度大的功率器件。

离子迁移测试(Ionic Migration Test)

目的:评估在电场作用下,封装体内离子迁移导致的电性能变化或失效。

测试条件:施加一定的电压和湿度条件,观察电特性随时间的变化。

应用:适用于含有易迁移离子的封装材料或结构。

气密性测试(Hermeticity Test)

目的:评估封装体的气密性能,以防止外部湿气、污染物等侵入导致失效。

测试方法:采用氦质谱检漏仪等方法检测封装体内的漏气情况。

应用:特别适用于对气密性要求高的封装结构,如气密封装。

热机械应力测试(Thermomechanical Stress Test)

目的:评估封装体在热机械应力作用下的变形、开裂等失效情况。

测试条件:施加一定的温度变化和机械应力,观察封装体的响应。

应用:适用于评估封装体的热机械稳定性和可靠性。

综上,可靠性测试是半导体器件封装过程中不可或缺的一环,它对于确保器件的长期稳定性和质量至关重要。通过合理选择测试项目和严格执行测试标准,可以全面评估器件的可靠性表现,并为后续的产品设计和生产提供有力的支持。

来源于学习那些事,作者小陈婆婆

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