9月15日,不需要光刻机的“5纳米芯片制造的直接蚀刻方法”专利公布,上海创消新技术发展有限公司申请的。这项发明的亮点在于,不用EUV光刻机或DUV光刻机,不需要光刻过程,直接蚀刻就可以制造5纳米芯片。这让美国对中国芯片制裁成为笑话,特别是让生产光刻机的荷兰阿斯麦公司感到绝望。
9月15日,不需要光刻机的“5纳米芯片制造的直接蚀刻方法”专利公布,上海创消新技术发展有限公司申请的。这项发明的亮点在于,不用EUV光刻机或DUV光刻机,不需要光刻过程,直接蚀刻就可以制造5纳米芯片。这让美国对中国芯片制裁成为笑话,特别是让生产光刻机的荷兰阿斯麦公司感到绝望。
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