落后ASML约20年!9月2日消息,据外资投行高盛最新发布的研究报告称,虽然中国

鹤弘谈商业 2025-09-02 20:35:43

落后ASML约20年!9月2日消息,据外资投行高盛最新发布的研究报告称,虽然中国近年来在半导体领域发展迅速,但是在半导体制造关键环节的光刻机研发上仍存在瓶颈,而中国国产光刻机目前仍停留在65纳米,至少落后国际大厂20年的时间。高盛的报告还引述了公开数据强调,ASML为了从65nm技术跃升至低于3nm的光刻能力,经过了二十年的时间,并投入了高达400亿美元的研发与资本支出。

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