落后ASML约20年!9月2日消息,据外资投行高盛最新发布的研究报告称,虽然中国近年来在半导体领域发展迅速,但是在半导体制造关键环节的光刻机研发上仍存在瓶颈,而中国国产光刻机目前仍停留在65纳米,至少落后国际大厂20年的时间。高盛的报告还引述了公开数据强调,ASML为了从65nm技术跃升至低于3nm的光刻能力,经过了二十年的时间,并投入了高达400亿美元的研发与资本支出。
5家被低估的半导体“隐形冠军”:1. 江丰电子:国产溅射靶材龙头,国内12英寸
【1评论】【60点赞】
落后ASML约20年!9月2日消息,据外资投行高盛最新发布的研究报告称,虽然中国近年来在半导体领域发展迅速,但是在半导体制造关键环节的光刻机研发上仍存在瓶颈,而中国国产光刻机目前仍停留在65纳米,至少落后国际大厂20年的时间。高盛的报告还引述了公开数据强调,ASML为了从65nm技术跃升至低于3nm的光刻能力,经过了二十年的时间,并投入了高达400亿美元的研发与资本支出。
猜你喜欢
【1评论】【60点赞】
【14评论】【17点赞】
【29评论】【554点赞】
【26评论】【38点赞】
【1评论】【4点赞】
作者最新文章
热门分类
财经TOP
财经最新文章