2022年，俄罗斯科学院下诺夫哥罗德应用物理研究所 (IPF RAS) 宣布，正在开发俄罗斯首套半导体光刻设备，并对外夸下海口：这套光刻机能够使用7nm生产芯片，可于2028年全面投产。
当时，IPF RAS计划在六年内打造出俄罗斯自产7nm光刻机的工业样机，2024 年将创建一台“Alpha机器”，2026创建"测试机"，2026年～2028年俄罗斯本土光刻机将获得更强大的辐射源，改进的定位和进给系统，并将开始全面的工作，2028年，这些设备全面运行。
时隔两年，俄罗斯所说的真的实现了——首台光刻机正式制造成功并进入测试。
俄罗斯联邦工业和贸易部副部长 Vasily Shpak 表示，该设备可确保生产 350 纳米工艺的芯片。
Shpak 表示，“我们组装并制造了第一台国产光刻机。作为泽廖诺格勒技术生产线的一部分，目前正在对其进行测试。”俄罗斯接下来的目标是在 2026 年制造可以支持 130nm 工艺的光刻机。
据悉，350 纳米工艺的芯片现在仍然可以应用于汽车、能源和电信等多个行业。
还是很厉害的👍🏻
别看350纳米感觉原始，但是导弹无人机等等的芯片就可以不用拆冰箱微波炉等等民用电器上的芯片应急了。