拦截成功!哈工大突破13.5nm极紫外光源,美国和ASML都想骂娘了
随着我们逐渐突破极紫外光刻技术，西方国家开始显得有点紧张了。他们怕我们中国制造的EUV光刻机会打破原有的产业链价格格局，造成欧美企业的经济损失。原来他们背后的“技术封锁”，竟然是为了维持全球产业链的主导地位，保持...
今日消息!1月4日早上8点前,突破极紫外光源,EUV光刻机迎来曙光
1，哈工大“放电等离子体极紫外光刻光源”技术获突破，13.5nm极紫外光源可用于EUV光刻机。国内在光刻机多核心技术有进展。哈工大的突破使格局生变，虽ASML有新动作，但中国的追赶让打破垄断充满希望。2，2024年度央企十大超级...
哈工大官宣搞定13.5nm极紫外光源,EUV光刻机迎来曙光
13.5纳米极紫外光刻光源，这个听起来有点晦涩的技术，实际上是EUV光刻机的核心组件之一。它不仅仅是一个简单的技术突破，更像是中国半导体产业的一道曙光，照亮了未来。说到EUV光刻机，就不得不提芯片制造的“卡脖子”问题。它...
哈工大再传喜报!官宣搞定13.5nm极紫外光源,EUV光刻机迎来曙光
2024年年底，哈尔滨工业大学的一项重磅官宣震撼了半导体行业：“放电等离子体极紫外光刻光源”技术取得突破，并成功进入成果转化阶段。这项技术能够提供13.5nm的极紫外光源，正是EUV光刻机的核心组件之一，作为先进芯片制造的...
今日消息！1月4日早上8点前，突破极紫外光源，EUV光刻机迎来曙光每天一起跟
1，哈工大“放电等离子体极紫外光刻光源”技术获突破，13.5nm极紫外光源可用于EUV光刻机。国内在光刻机多核心技术有进展。哈工大的突破使格局生变，虽ASML有新动作，但中国的追赶让打破垄断充满希望。2，2024年度央企十大超级...
哈工大拿下光刻机极紫外光技术,中国芯片之困,将破局了吗
那么这极紫外光对光刻机技术有何重要作用呢？【光刻机组成介绍】 相信有一些不明白的小伙伴对这一方面有些不了解，那么我们首先从光刻机是如何组成来进行了解。光刻机的核心组成部分之一便是“光源”，它承担着至关重要的任务...
哈工大再传喜报!成功研发13.5纳米极紫外光源,光刻机突破在即
在黑龙江省高校与科研院所职工科技创新成果转化大赛中，航天学院赵永蓬教授的“放电等离子体极紫外光刻光源”项目荣获一等奖。这一成果不仅展示了哈工大在光刻机领域的深厚底蕴，更为我国EUV光刻机的研发提供了新的思路和方法...
中科大教授:美国造不出的光刻机,中国更没戏了!如今被打脸
而晶体管的精细程度还是取决于光刻机中的光源，最有代表性的就是EUV，也是极紫外光刻技术，光波的覆盖长度可以 达到约10到14纳米，相较于深紫外光刻缩短了数十倍不止，光的分辨率大大提升，甚至可以 制出5nm 甚至更小的芯片。...
ASML CEO:由于美国禁售光刻机,中国芯片技术将落后西方10-15年|硅基世界
ASML预计，半导体市场的复苏进程比此前的预期缓慢，2024年第四季度ASML的净销售额将达88亿-92亿欧元之间，毛利率介于49%-50%，其中包括经客户验收后首次确认收入的两台HighNA极紫外光刻系统。因此，2024年全年，ASML的净销售额...
首台极紫外光刻机到手,日本不再掩饰其半导体野心。
日本半导体产业经历了一个漫长的低谷期，但随着ASML的TWINSCAN NXE:3800E光刻机在RAPIDUS工厂的交付，这个曾经的半导体巨头正在试图重返其荣耀的巅峰。对于日本来说，这不仅仅是一次技术上的进步，更是一场战略性的复兴。随着...
首台极紫外光刻机暴露日本野心,华为机皇价比百元机上演感人记录!
代表全球光刻机最高水平的ASML TWINSCAN NXE:3800E光刻机已在RAPIDUS工厂交付并开始安装，用来满足首代量产工艺2nm的制造需求。这也标志着日本半导体产业复兴的序幕拉开，自从广场协议后日本迫于压力交出半导体市场老大地位后...
首台极紫外光刻机到手日本野心暴露,华为Mate60低至百元创感人记录!
此次极紫外光刻机的交付，不仅是日本半导体技术实力的象征，也是其产业复兴道路上的一个重要里程碑。日本的这一举动，无疑将对全球半导体市场格局产生深远影响，也提醒着全球各国，半导体产业的竞争已进入全新的阶段，科技...
首台极紫外光刻机到手,日本半导体野心暴露,华为机皇价格滑铁卢!
全球光刻机的领导者ASML的TWINSCAN NXE:3800E光刻机已经成功交付至日本的RAPIDUS工厂，这不仅预示着日本半导体产业即将迈入新的发展阶段，也揭示了日本在半导体领域复兴的雄心壮志。值得一提的是，由于华为Mate70新机的曝光，...
台积电盘前涨超1%料年底将接收首批全球最先进的高数值孔径极紫外光刻机
消息面上，台积电预计将于今年年底从ASML接收首批全球最先进的高数值孔径极紫外光刻机。此外，天风国际分析师郭明錤称，苹果计划于2025下半年推出的新品(例如iPhone17等)将采用自研Wi-Fi7芯片，基于台积电N7工艺制造。(格隆汇)
消息称台积电月底将接收首台高数值孔径极紫外光刻机 单价约3.8亿美元
[TechWeb]9月11日消息，据外媒报道，在5nm和3nm制程工艺上，台积电和三星电子从阿斯麦采购了大量的极紫外光刻机，而随着制程工艺的升级，台积电和三星电子也需要购买更先进的光刻机，在2nm以下的制程工艺上，就需要高数值孔径...
日本宣布开发出新技术,可大幅降低极紫外光刻设备耗电量和制造成本
日本冲绳科学技术大学院大学开发出一项技术，可大幅降低极紫外光刻设备的耗电量和制造成本。这项技术将从设备的光源到光刻的EUV路径上配置的反光镜数量从原来的10个减少到4个。以EUV光源为中心，整体耗电量可减至原来的约十分...
极紫外光刻新技术问世,能大幅提高能源效率并降低半导体制造成本
据日本冲绳科学技术大学院大学（OIST）官网最新报告，该校设计了一种极紫外（EUV）光刻技术，超越了半导体制造业的标准界限。基于此设计的光刻设备可采用更小的EUV光源，其功耗还不到传统EUV光刻机的十分之一，从而降低成本并...
荷兰光刻机巨头ASML交付新一代极紫外光刻机 2026年开始应用
荷兰光刻机巨头ASML近日宣布，将优先向其客户Intel交付新型高数值孔径（HighNAEUV）的极紫外光刻机。这款设备成本超过3亿美元，将帮助计算机芯片制造商生产更小、更快的半导体产品。据了解，这款高数值孔径的极紫外光刻机组装...
阿斯麦:将向英特尔交付首批新型高数值孔径极紫外光刻机
（观察者网讯）据路透社报道，荷兰半导体设备制造商阿斯麦公司12月21日在社交媒体平台“X”（原推特）上表示，将向美国英特尔公司交付首批新型高数值孔径的极紫外光刻机。阿斯麦公司发布了这台机器的一部分自阿斯麦公司费尔德...
外媒:阿斯麦公司将优先向英特尔公司交付高数值孔径的极紫外光刻机
路透社12月22日报道称，荷兰阿斯麦公司将优先向美国英特尔公司交付其新型高数值孔径的极紫外光刻机。据悉，每台新机器的成本超过3亿美元，可帮助计算机芯片制造商生产更小、更快的半导体。阿斯麦公司在社交平台X上发布了一张...
ASML将交付新型高数值孔径极紫外光刻机#【阿斯麦：将向英特尔交付首批新型高数
ASML将交付新型高数值孔径极紫外光刻机#【阿斯麦：将向英特尔交付首批新型高数值孔径极紫外光刻机】据路透社报道，荷兰半导体设备制造商阿斯麦公司12月21日在社交媒体平台“X”（原推特）上表示，将向美国英特尔公司交付首批...
Intel 4制程量产!英特尔宣布采用极紫外光刻技术
英特尔宣布已开始采用极紫外光刻技术大规模量产Intel4制程节点，产品代号为MeteorLake的英特尔酷睿Ultra处理器将于今年12月14日发布。作为英特尔首个采用该技术生产的制程节点，Intel4在性能、能效和晶体管密度方面均实现了...
第一次EUV极紫外光刻！Intel 4工艺官宣大规模量产
Intel官方宣布，已经开始采用EUV极紫外光刻技术，大规模量产Intel 4制造工艺。这是Intel首个采用EUV生产的制程节点，对比前代在性能、能效、晶体管密度方面均实现了显著提升。Intel 4工艺首发用于代号Meteor Lake的酷睿Ultra...
10亿美元起步!ASML极紫外光刻机售价曝光
这对于极紫外（EUV）光刻工艺的需求更为强烈。同时，ASML也将在今年年底出货新版极紫外光刻机NXE:3800E，这项新技术被认为是实现2纳米工艺关键的因素。ASML是全球唯一一家能够量产EUV光刻机的企业，并且已经在此领域进行了多次...
光刻机核心技术：多孔透镜聚焦极紫外辐射
尽管如此，任何极端紫外线范围内的镜头都可能对半导体光刻等应用有用。研究人员希望开发出一种显微技术，其分辨率能够揭示发生在纳米尺度的阿秒事件。该研究发表于《科学》期刊上 DOI:10.1126/science.adg6881