中国自研光刻机技术突破,阿斯麦面临2025年市场挑战?
传统的深紫外光刻机依赖于稀有气体，成本高昂且维护复杂。而固态激光光源...华为联合哈尔滨工业大学研发了“放电等离子体极紫外光源”，中科院另辟蹊径，用固态激光技术实现了突破，舜宇光学也在NA0.75物镜系统上取得了关键进展。...
中国永远都造不出光刻机？“去年，中国一位物理学教授在一次采访中直言：“美国都造不
但光刻机更像“芯片画家”，得把电路图精准投影到硅片上，尤其是极紫外（EUV）光刻机，全球90%以上被荷兰ASML垄断，咱们确实还在追赶。朱士尧教授当年说那话，估计是没搞清楚这俩“机”压根不是一码事，就像把“铣床”和“打印...
中国科研震撼全球!突破光刻机光源技术壁垒,半导体格局迎来新变数!
技术可扩展性强—为未来的EUV（极紫外）光刻技术开辟新思路，有望彻底打破西方的光刻机霸权。从实验室到工厂，技术落地还需跨越三座大山 当然，这一突破距离真正走向产业化仍然存在挑战，主要面临三大技术关卡： 1.光源功率的...
光刻机概念股炸了!半导体黄金时代来了?(附图)
中信证券明确表示，未来如果DUV（深紫外）和EUV（极紫外）光刻机能在国内实现突破，中国半导体的先进制程就能彻底甩掉“卡脖子”的帽子，彻底打破欧美的技术封锁！【产业资本疯狂加码，半导体设备正迎来新拐点】 除了政策支持...
国产高端芯片产业链,可能要跑通了,中国芯绝地反击EUV光刻机横空出世?别眨眼,挑战刚开始
今年1月，哈工大赵永蓬教授的放电等离子体极紫外光刻光源，还拿了大奖！比ASML路线更省电、便宜！这几年，咱们在EUV国产化路上，摸爬滚打！这是一场没有硝烟的战争！好在，从去年开始，好消息多了起来！去年9月工信部通知，...
一张图解说光刻机的4大核心技术
EUV（极紫外光刻）： EUV代表"Extreme Ultraviolet Lithography"，即极紫外光刻技术。它使用波长大约为13.5纳米的极紫外光进行芯片制造过程中的光刻过程。由于EUV光的波长远远小于传统光刻技术使用的波长，EUV光刻技术能够实现...
控诉华为搞光刻机!是属于破坏了全球芯片产业链平衡
全球唯一能生产极紫外光刻机（EUV）的！这玩意儿，是制造最先进制程芯片的“核心装备”，就跟“印钞机”似的！一台EUV光刻机，1.5亿美元起！注意，是“起”！而且，有钱你都买不到！人家ASML想卖给谁就卖给谁，不想卖给谁，你...
26亿元投入,英特尔购入顶尖光刻机,全球芯片市场变化会有多大?
可能有人会问，什么是高数值孔径极紫外光刻机？从名字听起来就很高科技，但实际上，它的作用非常直接—让芯片制造更加精确。我们都知道，在科技世界，摩尔定律就像一部古老的魔法书，它指引着半导体行业不断追求更小、更快、更...
中国股市:四只“光刻机”概念潜力龙头,未来有望翻倍!(名单)
如极紫外光刻机（EUV）采用极紫外光作为光源，波长极短，能够实现更高的分辨率，可制造出更小制程的芯片。光刻机概念的发展趋势主要体现： 技术层面：光源波长不断缩短，以追求更高分辨率，提升芯片制程。产品性能：不断提高...
芯片之战胜负已定?哈工大光刻机技术突破震动世界,外媒:中国人不低调了
2024年底哈尔滨工业大学航天学院的赵永蓬教授团队给我们带来了一个震撼的好消息：他们成功研发出了“放电等离子体极紫外光刻光源”。这个光源的波长为13.5纳米，打破了国外技术的垄断。咱得了解一下极紫外光源（EUV）的重要性...
26亿元!天价光刻机正式投产,外媒:全球芯片业或重新洗牌
这款高数值孔径的极紫外光刻机被誉为工业精尖技术的巅峰，它使得摩尔定律的进展得以延伸至3纳米以下。在此之前，芯片制造技术遭遇了瓶颈，而这台光刻机成功打破了这一壁垒。英特尔利用这台设备，制造出了厚度仅为0.7纳米的极细...
江苏科麦特申请极紫外光刻用掩模防尘系统的制备方法专利,所制备的掩模防尘系统成像更清晰
金融界2025年1月30日消息，国家知识产权局信息显示，江苏科麦特科技发展有限公司申请一项名为“极紫外光刻用掩模防尘系统的制备方法”的专利，公开号CN119376178A，申请日期为2024年11月。专利摘要显示，本发明涉及极紫外光刻...
突破!哈工大突破EUV光刻机13.5nm极紫外光,国产EUV光刻机来了?
最近，哈尔滨工业大学（简称哈工大）宣布成功研发出中心波长为13.5纳米的极紫外光（EUV）源，这一成就为国产EUV光刻机的未来发展带来了希望。然而，距离实际应用还有多远？这项技术的突破意味着什么？让我们一同探讨！哈工大的...
今日消息!1月4日早上8点前,突破极紫外光源,EUV光刻机迎来曙光
1，哈工大“放电等离子体极紫外光刻光源”技术获突破，13.5nm极紫外光源可用于EUV光刻机。国内在光刻机多核心技术有进展。哈工大的突破使格局生变，虽ASML有新动作，但中国的追赶让打破垄断充满希望。2，2024年度央企十大超级...
太牛了!哈工大官宣搞定13.5nm极紫外光源,EUV光刻机迎来曙光!
EUV光刻机使用13.5纳米的极紫外光波长，可以将芯片上的电路图案刻得更小、更精细，这对于制造先进工艺的芯片至关重要。然而，EUV光刻机的制造极其复杂，技术要求极高，几乎每一个环节都需要精密的控制与创新，这也是中国在这一...
哈工大再传喜报!成功研发13.5纳米极紫外光源,光刻机突破在即
在黑龙江省高校与科研院所职工科技创新成果转化大赛中，航天学院赵永蓬教授的“放电等离子体极紫外光刻光源”项目荣获一等奖。这一成果不仅展示了哈工大在光刻机领域的深厚底蕴，更为我国EUV光刻机的研发提供了新的思路和方法...
消息称台积电月底将接收首台高数值孔径极紫外光刻机 单价约3.8亿美元
[TechWeb]9月11日消息，据外媒报道，在5nm和3nm制程工艺上，台积电和三星电子从阿斯麦采购了大量的极紫外光刻机，而随着制程工艺的升级，台积电和三星电子也需要购买更先进的光刻机，在2nm以下的制程工艺上，就需要高数值孔径...
日本宣布开发出新技术,可大幅降低极紫外光刻设备耗电量和制造成本
日本冲绳科学技术大学院大学开发出一项技术，可大幅降低极紫外光刻设备的耗电量和制造成本。这项技术将从设备的光源到光刻的EUV路径上配置的反光镜数量从原来的10个减少到4个。以EUV光源为中心，整体耗电量可减至原来的约十分...
荷兰光刻机巨头ASML交付新一代极紫外光刻机 2026年开始应用
荷兰光刻机巨头ASML近日宣布，将优先向其客户Intel交付新型高数值孔径（HighNAEUV）的极紫外光刻机。这款设备成本超过3亿美元，将帮助计算机芯片制造商生产更小、更快的半导体产品。据了解，这款高数值孔径的极紫外光刻机组装...
阿斯麦:将向英特尔交付首批新型高数值孔径极紫外光刻机
（观察者网讯）据路透社报道，荷兰半导体设备制造商阿斯麦公司12月21日在社交媒体平台“X”（原推特）上表示，将向美国英特尔公司交付首批新型高数值孔径的极紫外光刻机。阿斯麦公司发布了这台机器的一部分自阿斯麦公司费尔德...
外媒:阿斯麦公司将优先向英特尔公司交付高数值孔径的极紫外光刻机
路透社12月22日报道称，荷兰阿斯麦公司将优先向美国英特尔公司交付其新型高数值孔径的极紫外光刻机。据悉，每台新机器的成本超过3亿美元，可帮助计算机芯片制造商生产更小、更快的半导体。阿斯麦公司在社交平台X上发布了一张...
ASML将交付新型高数值孔径极紫外光刻机#【阿斯麦：将向英特尔交付首批新型高数
ASML将交付新型高数值孔径极紫外光刻机#【阿斯麦：将向英特尔交付首批新型高数值孔径极紫外光刻机】据路透社报道，荷兰半导体设备制造商阿斯麦公司12月21日在社交媒体平台“X”（原推特）上表示，将向美国英特尔公司交付首批...
Intel 4制程量产!英特尔宣布采用极紫外光刻技术
英特尔宣布已开始采用极紫外光刻技术大规模量产Intel4制程节点，产品代号为MeteorLake的英特尔酷睿Ultra处理器将于今年12月14日发布。作为英特尔首个采用该技术生产的制程节点，Intel4在性能、能效和晶体管密度方面均实现了...