“光刻机之父”林本坚:中国具备制造5nm芯片能力,美国也已承认。
对于外界的忧虑,浸润式光刻机的发明者林本坚最近公开表示,目前来看,中国大陆的7纳米芯片显然是独立研发的。他进一步指出,中国使用的光刻机很可能也是自主研发的。经过多次改进,大陆的设备已经能够生产出5纳米芯片,这令人...
【林本坚】新闻资讯
对于外界的忧虑,浸润式光刻机的发明者林本坚最近公开表示,目前来看,中国大陆的7纳米芯片显然是独立研发的。他进一步指出,中国使用的光刻机很可能也是自主研发的。经过多次改进,大陆的设备已经能够生产出5纳米芯片,这令人...
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