中国芯片迎来转机,三大核心技术接连攻克,美国完全没料到这么快

瑞鹤仙 2021-08-09 11:56:53

提到科技,就不得不谈到我们的核心问题芯片。高端芯片的制造是我国一大难题,目前任何科技行业的发展都离不开芯片。国内华为海思以及紫光展锐拥有着顶尖的设计能力,6nm的芯片设计不在话下。但代工方面却只能依赖全球巨头台积电,随着美国的一顿制裁,台积电已经无法为华为供货。中国的科技企业一度陷入缺芯危机,甚至华为前不久发布的旗舰机华为P50智能采用4G芯片。

国内规模最大的芯片厂中芯国际只能量产14nm的芯片,10nm以下的量产暂时未达到突破。如果长期未找到代工厂,芯片将完全绝版,唯一的解决方法就是制造国产芯片,通过自主研发的道路,摆脱国外的制裁。将芯片的自主权掌握在手里,才能逆风翻盘,反败为胜。我国加大投资,国产企业走上造芯之路,打造半导体产业链,最终国产芯片再次破冰,迎来好消息。

目前,三大核心技术已被攻克。在材料方面,南大光电已经研发出ArF光刻胶,并且通过了国家验收检测,重要的是,这款ArF光刻胶在7nm的制程上也能进行运用。技术层面,中芯国际虽然没有EUV光刻机,但从来没有停止过对7nm制造技术的研究,如果高端制程顺利研发,国产芯片将取得重大进步。最后是新一代光刻机设备,上海微电子宣布将在今年年底落地,只要落地成功,制造先进芯片绝对没有问题。

核心技术的攻破,对国产高端产品有着里程碑式的意义,这些突破暗示着国产芯片越来越近。打造高端芯片生产线已经初具雏形,在人才方面,国内的梁孟松等优秀半导体才子将会带领半导体继续发展。不管是芯片的技术制程还是设计进度,中芯国际和紫光展锐都会持续发力,加紧突破。

中国是芯片的一大市场,需求量直线增加,但每年都需要大量进口芯片才能满足供应需求。一旦国外停止供货,所有科技企业都将被限制发展,中国的一些企业已经遭遇了这些。因此,国产芯片必须不断突破,实现自给自足。一台光刻机的零件就需要10万多个,并且来自不同国家的提供。所以道路漫长,国产科技肩负重任。

此次三大核心技术的突破,令美国完全没料到会这么快,芯片的制造生产问题取得了重大进展,中国半导体领域的城墙正在建立之中。国产芯片的研发之路不会停止,虽说已经有了质的飞跃,但仍不能松懈,相信中国速度,相信中国制造!

(文:张张)

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