曾经，中国科技界就受到过这样的质疑：“中国能造光刻机吗？”
这个问题不仅拷问着我们的科技实力，更深深刺痛了我们的民族自尊心。而中科大副院长朱士尧，曾在一场公开演讲中直言不讳地表示：“美国做不到（完全自主研发高端光刻机），中国更没可能。”
朱士尧院长的言论，无疑给当时的中国科技界泼了一盆冷水，刺痛无数国人的心！
然而，就在这样的技术壁垒面前，中国在2024年取得了重大突破——氟化氩光刻机（新一代DUV光刻机）成功进入推广应用阶段。氟化氩光刻机以其独特的技术特点，如更高的分辨率、更低的制造成本和更稳定的性能，迅速赢得了市场的青睐。它的出现，不仅打破了国外技术垄断，更让中国在光刻机领域迈出了坚实的一步。
这项技术以其设备简单、成本低、分辨率高等优势，成为了中国光刻机技术的重要突破口。纳米压印技术的成功应用，不仅让中国在光刻机领域取得了重大进展，更让我们看到了中国科技创新的无限可能。我们不再局限于国外技术路径，而是走自己的创新之路，用科技的力量书写着属于我们的辉煌篇章。
而中国在此领域的进展，也让人眼前一亮。虽然与荷兰ASML相比，我们在EUV光刻机技术方面还存在一定差距。但不可否认的是，中国已经取得了巨大的进步。我们的科研团队正在夜以继日地攻克技术难关，为实现EUV光刻机的自主研发而努力奋斗。
我们用实际行动向世界证明：中国，这个曾经被质疑和嘲讽的国家，正以惊人的速度奔跑在全球科技最前沿。从“中国制造”到“中国创造”，我们走过了漫长的道路。每一步都充满了艰辛和挑战，但每一步都凝聚着中国科学家的智慧和汗水。他们用科技的力量，书写着属于中国的辉煌篇章。
