EUV光刻机搅局者改变芯片格局！

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5 nm和2 nm：极紫外光刻将会改变整个晶片的结构

毋庸置疑，光刻工艺在整个世界的晶片生产中占有重要地位。这种新的制程方法，不但可以被许多不同的晶片工厂所使用，也是许多高级制程的重要组成部分。但是，光刻是微影制程中不可或缺的一项关键装置，其重要程度是无法被夸大的。光刻工艺因其高门槛、高研发难度和复杂的供应链等因素，成为目前最贵的集成电路制造装备。

在很长一段时间里，世界光刻技术的发展都被一些厂商所把持。荷兰 ASML公司在7 nm及更低制程制程制程上拥有绝对的绝对优势，主要集中在 EUV光刻制程上。但是，这样的情况也许会有很大的变化。日本佳能近日宣称，他们的奈米印刷机FPA-1200NZ2C，将在年内开始批量生产。这套装置不但可以应用于5 nm制程，也可以在将来提升至2 nm制程，彻底避开极紫外光刻制程。

佳能公司的这一突破性进展，预示著光刻行业的竞争将会更加激烈，同时也将会改变整个世界晶片生产的版图。佳能公司生产的奈米印刷设备比普通 EUV光刻设备便宜，而且能源效率更高。据悉，其制造费用只相当于极紫外光刻机的10%，而能源消耗只有 EUV光刻的10%。此外，在使用奈米压印技术时，附属装置的费用亦较 EUV光刻装置降低约40%。这样的优点，使得佳能公司的奈米印刷机具有了更大的竞争能力。

佳能公司的奈米印刷工艺确实不是一夜之间完成的。目前，国际上对纳米印刷的研究与使用已有相当的进展。相对于常规光刻，纳米印刷在精度、制造成本等方面有着巨大的优势。而佳能公司则一直致力于该行业的研究与开发，并在此基础上进行了大量的研究与开发。在与 SK Hynix公司的密切配合下，佳能公司已经成功地开发出 NIL型记忆体晶片，并且在持续的工艺改善下，产品的品质及适用领域也在逐渐提升。

值得一提的是，佳能公司的奈米印刷装置除了拥有价格上的优势外，更拥有独一无二的创意科技。比如，这台设备采用了先进的奈米印刷工艺，无需极紫外灯即可制造出高精度的晶片。这样既可以减少制造成本，又可以避开极紫外光刻工艺中存在的光源老化及后期维修等难题。同时，利用该方法可以有效地提升制程效率与制程品质。

在将来，佳能公司的奈米印刷工艺将会给晶片生产带来一场革命。在此基础上，该工艺将逐渐替代常规极紫外光刻工艺，并逐渐发展为集成电路的核心工艺。与此同时，5 G和人工智能等新兴技术的迅猛发展，使得世界范围内对高性能集成电路的需求量急剧增加。佳能公司的奈米印刷工艺，将会极大地促进世界晶片产业的蓬勃发展，并将会彻底改写整个晶片产业的版图。

总的来说，佳能公司FPA-1200NZ2C系列的批量生产为光刻行业带来了巨大的变化。这种新的工艺将会带来晶片生产领域的变革，也会对整个世界的晶片产业产生深远的影响。可以预见，在今后的日子里，该方法将得到更多的推广与改进，为科学与社会发展提供更多的意外与机会。