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2024年10月22日，作为国内半导体掩模版行业的领军企业，龙图光罩(股票代码：688721)凭借出色的业绩向市场提交了一份令人满意的答卷。公司公布了自首次进入资本市场以来的首份三季度财报。
龙图光罩的主要业务集中在半导体掩模版的研发、生产和销售领域。公司始终紧跟国内特色工艺半导体的发展趋势，不断进行技术攻关和产品迭代更新。其产品广泛应用于功率半导体、微机电系统(MEMS)传感器、集成电路(IC)封装、模拟集成电路等特色工艺半导体领域。其终端应用范围涵盖了新能源、光伏发电、汽车电子、工业控制、无线通信、物联网以及消费电子等多个场景。
根据三季度财报显示，龙图光罩在前三季度实现了1.87亿元的营业收入，同比增长了15.90%;归属于母公司股东的净利润达到了7156.89万元，同比增长了14.41%;扣除非经常性损益后的净利润为7103.24万元。报告期内，公司基本每股收益为0.69元，加权平均净资产收益率为10.97%，这些数据充分展示了公司在经营上的稳健和盈利能力。
取得如此出色的成绩，与龙图光罩对技术创新的重视密不可分。公司在高精度半导体掩模版领域不断引进先进设备并进行技术攻关。针对半导体掩模版的工艺特点，公司已经形成了多项自主研发的核心技术，包括图形补偿(OPC)技术、精准对位标记技术、光刻制程管控技术、曝光精细化控制技术以及缺陷修补与异物去除技术等。这些技术贯穿了CAM、光刻、检测三大环节，确保了产品的高质量和高精度。
同时，公司还积极开展技术布局与储备，储备了电子束光刻技术及PSM相移掩模版技术，形成了一定的技术成果。这些技术的储备为公司在未来市场竞争中占据了有利地位，为公司的可持续发展奠定了坚实的基础。
目前，中国大陆的第三方半导体掩模版生产企业主要集中在130纳米及以上制程节点，而130纳米及以下制程节点的掩模版仍然严重依赖进口，国内供应存在较大的缺口，这为龙图光罩的业绩增长奠定了坚实的基础。龙图光罩已经实现了130纳米工艺节点半导体掩模版的量产，达到了±20纳米的线宽控制精度和套刻精度。其技术实力和工艺能力在国内第三方半导体掩模版厂商中处于领先地位。
在国家产业政策的大力支持以及国内半导体需求受下游驱动愈发旺盛的背景下，半导体掩模产业迎来了新的发展机遇。值得一提的是，龙图光罩于2024年8月6日正式登陆资本市场，在资本的助力下，公司计划利用现有的优势和产品竞争力，进一步扩大国内特色工艺半导体市场掩模版的市场占有率。同时，公司还将大力推进高端半导体芯片掩模版项目建设，实现高端半导体掩模版技术的突破，不断提升制程节点。
相信，龙图光罩凭借其不懈的技术创新和持续的市场拓展努力，必将为我国半导体产业的自主可控和高质量发展贡献更多的力量。与此同时，公司也将以更加优异的业绩来回馈广大投资者的期望和支持。
