说起光刻机，大家最先想到的是谁，当然是ASML，这可是真正的巨无霸，全球唯一能够生产EUV光刻机的厂商，另外在DUV等光刻机领域，也是霸主。

而除了ASML之外，日本还有尼康、佳能，中国大陆还有上海微电子，这三家企业相对于ASML，不管是技术水平，还是市场份额，确实低很多。

如下图所示，这是三家厂商在光刻机领域领域的市场份额情况，ASML一家就独占80%+份额。

但事实上，大家不知道的是，这里的份额，主要指的是前道光刻机。

光刻机其实分为两种，一种是前道光刻机，用于芯片制造的光刻机，比如EUV、DUV这些，这一块确实是ASML、尼康、佳能这三大厂商称雄。

但还有一种叫做后道光刻机，用于芯片封装的光刻机，这一种光刻机实现高性能的先进封装，相对于前道芯片制造的光刻机而言，技术难度相对较小一些，但也是芯片制造过程中不可或缺的，这一块，国产光刻机的力量可是很强大的。

近日，国产光刻机龙头上海微电子的数据显示，目前其后道封装光刻机在全球市场的市占率为37%，在中国大陆市场的占有率高达85%，还有LED系列光刻机全球市占率55%。

去年的时候，上海微电子更是推出中国第一台2.5D/3D先进封装光刻机，并且正式交付客户，全球的封装大厂，均大量采购了上海微电子的光刻机进行芯片封装。

可见，虽然在前道光刻机领域，国产并不是特别给力，市场份额很少，但在后道光刻机领域，还是相当给力的，全球占三分之一，国内更是处于垄断地位，并不逊色于其它光刻机巨头，只是大家的赛道不同而已。

事实上，除了后道光刻机很强之外，从前道技术来看，上海微电子的光刻机，也并不是那么的差，也是有一战之力的。

如上图所示，上海微电子与佳能，其实是一档的，实现了ArF、KrF、i线、G线，工艺制程是90nm+，只要再进前一点，就可能达到ArFi，也就是浸润式光刻机，那就相当于达到7nm了。

所以说，别小看了国产光刻机，它在后道这一块，已经是全球巨头了，在前道这一块，起步晚，所以比ASML等差一些，但已经在追赶了，估计很快就会追上的。