这个图片最大的意义是我们国产已经成熟掌握了密度大于台积电第一代7nm的半导体工艺,N+2实际晶体管密度已经接近了5nm产品,并且可以用于复杂先进集成电路(几十亿晶体管,数Ghz)的大批量商业化生产单独一个都是不容易的,完全做到这一点就是中国半导体工业生产工艺的里程碑。
这个图片最大的意义是我们国产已经成熟掌握了密度大于台积电第一代7nm的半导体工艺,N+2实际晶体管密度已经接近了5nm产品,并且可以用于复杂先进集成电路(几十亿晶体管,数Ghz)的大批量商业化生产单独一个都是不容易的,完全做到这一点就是中国半导体工业生产工艺的里程碑。
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