三星称4nm良率已进入预定曲线3nm工艺良率改善中

锚思科技网 2022-05-15 21:06:23

【锚思科技讯】三星在4nm工艺上的良率仅有35%,让它失去了NVIDIA和高通等大客户,虽然三星一再否认,但高通和NVIDIA转投台积电这事不假。

前几天,三星管理层向董事会报告,显示了三星对3nm工艺的信心,表示良率已经改善。

三星表示,5nm工艺已经进入成熟阶段,还在扩大服务,4nm工艺虽然良率提升过程出现了延迟,但已经进入了预定的良率曲线,未来的3nm工艺还在准备设立一条新的研发生产线。

三星之所以重视3nm节点,是因为这个是三星在制造工艺上超越台积电的一个重要机会。3nm工艺上,三星会用上下一代GAA晶体管技术,而台积电则会继续使用FinFET。

GAA晶体管技术是一种型的环绕栅极晶体管,通过使用纳米片设备制造出了MBCFET(Multi-Bridge-Channel FET,多桥-通道场效应管),该技术可以显著增强晶体管性能。

据三星的说法,与7nm制造工艺相比,3nm GAA技术的逻辑面积效率提高了45%以上,功耗降低了50%,性能提高了约35%,纸面参数确实比台积电3nm FinFET工艺漂亮。

当然我们最担心的还是良率问题。

0 阅读:24

锚思科技网

简介:锚思科技网官方账号