官宣！挑战阿斯麦EUV光刻机地位，15年光刻技术研究结果出炉！

文/蘑菇谈科技

虽说半导体行业不是一个容易弯道超车的行业，但并不代表这不存在洗牌。例如说光刻机领域中，以前一直都是日本的光刻巨头霸占了大部分的市场，而到了后来却由ASML这样的一个小角色迅速霸占市场，且还垄断了全球的EUV光刻机。而现如今，伴随着老美一步步的限制之下，ASML的市场地位也开始有所动摇。

不出意外的话，洗牌的局面或再次来临。

据日本科技巨头佳能Canon官宣的消息显示，他们预计在今年推出新的低成本纳米压印光刻机技术，以此来挑战阿斯麦在EUV光刻机的市场地位。据了解，纳米压印光刻机技术是佳能研究了15年的结果，其半导体节点宽度为5nm，目标最终将达到2nm的芯片工艺。同时，这一项新的技术将降低采购成本，以及运行的功耗等等方面。

从目前来看，新的光刻机技术方案对ASML份额冲击的可能性很高。毕竟EUV光刻机的成本太高了，而新的技术才是ASML设备的40％左右。除此之外，ASML还一直受到美技术的管制，在多元化的发展下，摆脱对ASML独家的依赖已经成为了当下不少客户的首选。

只是，日本的科技巨头真的能挑战成功吗？

就笔者看来这有点难。很多日本的芯片专家指出过他们的一个痛点，那就是和ASML相比，他们差的并不是技术的本身。而是在于客户的不够庞大。也正是在这样的背景下，他们一开始是打算从中国市场上入手，借着ASML光刻机被限的机会，抢占大部分市场份额并和ASML缩短客户群体差距。

然而，尽管日本的芯片金禁令已经对日本企业开起了绿灯，但就佳能所研发的这一项新技术设备，依旧需要同样面临对华的销售出口管制。也就是说，他们无法以打开中国市场作为突破口，这在起步就落后了ASML一大截。

其次，挑战成功还需要一个关键，那就是他们能否说服自己的客户，在芯片制造这一块开启两种光刻技术进行制造。

众所周知，ASML在光刻设备上的实力并不低，且和多个客户都有了长期深厚的合作。如果说市场客户换到了佳能的光刻机，他们所造出来的芯片质量等各方面是否能和ASML的达成一致这是一个很重要的问题。如果说存在这样的担忧，那么佳能在撼动ASML市场地位上将很困难，所以才说他们需要去说服自己的客户。

况且，面对这样新的技术，虽说优势众多，可谁又愿意去做第一个吃螃蟹的人呢？这些都是佳能在未来所需要面临的问题。不过，有一说一，如果是能出货到大陆市场上或许这个压力会小不少，毕竟在ASML无法出货，且我们又想发展尖端芯片的情况下，其实大陆的厂商会更愿意给佳能这个机会的。

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