哈工大突破13.5nm极紫外光源，美国和ASML忍不住骂人了！
ASML惨遭打脸，因为前不久阿斯麦CEO说断供高端光刻机就是为了让中国技术落后10-15年，然而就在刚刚，哈工大传来光刻机重大利好消息，国内已经成功搞定13.5nm波长的光源，注意，这是极紫外光源，这可以说是造出EUV光刻机的最后一步，有了这种光源，就能生产5nm-3nm芯片，多次曝光则可以生产2nm甚至1nm芯片，目前台积电生产3nm芯片所使用的EUV，就是使用了波长为13.5nm的极紫外光源。现在ASML可能急眼了，没想到这才断供没几年，中国这么快就突破这项技术。
当然比ASML更急眼的是美国，因为光刻机能卖给谁，ASML没有决定权，出售光刻机时，需要把各种材料提交给美国，由美国决定是否放行，之所以急，主要是老美认为EUV光刻机由全球所有发达国家分工合作研发生产，有10万多个零部件，单凭一个国家根本造不出来。现在哈工大这个消息，确实精确打击了漂亮国的内心，极紫外光源的突破，意味着EUV会像麒麟芯片那样：你不卖，那我们就自己造。
现在回过头来看，当初专家的预测一点都没有错，美国断供到最后一定会被反噬，因为西方国家并不仅仅是在光刻机上对中国进行技术封锁，而是全领域封锁，现在不还是被中国全部突破，空间站都被我国一己之力给造出来了，突破EUV并不会用多少年。因此看到哈工大这个消息，估计美国都想骂娘了，自己2018年才禁止ASML把EUV卖给中芯国际，如今才过去7年，最核心的极紫外光源就这样被突破了，真是伤害不大侮辱性极强。
赵会
中国的固定式光刻机今天新闻已投产！小的干不过你，大的还是有的！