IT之家2月1日消息，ASML总裁兼首席执行官ChristopheFouquet在上月末的公司2024年第四季度财报电话会议上表示，该企业的首台第二代0.55(High)NAEUV光刻机TWINSCANEXE:5200即将以“早期工具”的身份开始发货，用于技术成熟度验证。
EXE:5200是现有初代HighNAEUV光刻机EXE:5000的改进款，根据ChristopheFouquet的说法，该型号“更适合大批量生产”。而EXE:5000作为初期版本主要用于HighNAEUV光刻技术的开发。
从ASML光刻系统的迭代规律来看，EXE:5200预计将拥有更高的晶圆吞吐量（IT之家注：EXE:5000为每小时185片以上），同时支持更为精细的后2nm逻辑半导体工艺。
ChristopheFouquet还提到，其0.33(Low)NAEUV光刻机的最新型号NXE:3800E已在工厂实现每小时220片的设计晶圆吞吐量，较初期的185片进一步提升，比前一代的NXE:3600D已高出37.5%，充分发挥了结构改进带来的优势。
