IT之家2月19日消息，尼康在其2025财年第三财季（截至2024年12月31日）财报的演示文稿中透露，该企业正同合作伙伴一道开发一款兼容ASML主导的浸没式ArF（IT之家注：也称ArFi）光刻生态的新型光刻机产品，目标2028财年（2027年4月~2028年3月）推出。
在浸没式ArF光刻领域，ASML目前凭借其成熟的TWINSCAN双工件台技术牢牢掌握着九成以上的光刻机市场份额。而该市场仅有的另一位参与者尼康目标是将占比提升到与干式ArF领域相当的更高水平。
尼康认为随着DRAM内存和逻辑半导体向三维发展，浸没式ArF光刻的需求也将提升。为从ASML手中夺下更多的ArFi订单，尼康计划使其正开发浸没式ArF光刻机与ASML的同类设备生态兼容，方便原计划采用ASML光刻机的用户迁移至尼康平台。
此外，尼康表示其新一代浸没式ArF光刻机将采用新的镜头和工件台，并具备尺寸紧凑、易于维护的优势。而再下一代产品的开发预计在2030年后启动。
