IT之家3月25日消息，据国际光电工程学会（SPIE）消息，中国科学院（CAS）研究人员成功研发突破性的固态深紫外（DUV）激光，能发射193nm的相干光（CoherentLight），该波长目前被用于半导体曝光技术。
论文介绍称，深紫外相干光，尤其是193nm波长的光，已成为半导体光刻不可或缺的部分。研究人员提出了一种紧凑型固态纳秒脉冲激光系统，能够在6kHz的重复频率下产生193nm相干光。
将自制Yb:YAG晶体放大器中的1030nm激光的一部分通过四次谐波产生，生成258nm激光（1.2W），其余部分用于泵浦一个光学参量放大器，产生1553nm激光（700mW）。这些光束在级联LiB3O5晶体中的频率混合产生平均功率为70mW、线宽小于880兆赫的193nm激光。通过在频率混合前将螺旋相位板引入1553nm光束，我们生成了一个携带轨道角动量的涡旋光束。
IT之家从论文获悉，这是首次从固态激光中产生193nm涡旋光束的演示。这种光束对于种子混合ArF准分子激光器非常有价值，并在晶圆加工和缺陷检测中具有潜在的应用。
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如来神掌 回复 03-25 18:29
加紧量产。国内好多工厂等着固态深紫外激光。
犀利魔力哆
为辛苦研究的科学家点赞，你们都是中国人的脊梁！[点赞][点赞][点赞]
逆上Laruku
不光要拿出论文，拿出产品才是硬道理。[点赞]
water
等技术都变成中文，中国就崛起了
Sanmi
功率有点小，赶紧工程化放大，要涨一千倍才可用
如是我闻
为中科院的科技工作者点赞[点赞][点赞][点赞]
zinini
台积电离完蛋又近了一步
绿酒初觞
这是深紫外，要做高级的得euv
立夏*爱
语焉不详，就想知道，到底能制造多少纳米的光刻机?