湖北兴福电子申请一种利用聚焦离子束制备TEM孔隙样品的方法专利,能够提高孔隙样品底部结构的稳定性

金融界 2025-03-25 15:24:55

金融界2025年3月25日消息,国家知识产权局信息显示,湖北兴福电子材料股份有限公司申请一项名为“一种利用聚焦离子束制备TEM孔隙样品的方法”的专利,公开号CN119666504A,申请日期为2024年12月。

专利摘要显示,本发明涉及半导体制造技术领域,尤其涉及深度较大的孔隙样品,提供了一种采用聚焦离子束(FIB)制备孔隙样品观察底部结构的方法。该方法通过将离子减薄专用树脂填充入孔隙内部、引入改进的倒切技术等手段,解决了现有技术中制备样品时产生的孔隙结构变形、聚焦离子束对孔隙内部损伤大的问题,本发明的技术效果在于它能够提高孔隙样品底部结构的稳定性、避免减薄过程中对孔隙结构的损伤。

天眼查资料显示,湖北兴福电子材料股份有限公司,成立于2008年,位于宜昌市,是一家以从事化学原料和化学制品制造业为主的企业。企业注册资本26000万人民币。通过天眼查大数据分析,湖北兴福电子材料股份有限公司共对外投资了6家企业,参与招投标项目160次,财产线索方面有商标信息4条,专利信息361条,此外企业还拥有行政许可275个。

本文源自:金融界

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