“中国突破了自主生产先进芯片的障碍!”,最近,《南华早报》发布的一篇报道,公布了一个振奋人心的消息,中国在西方拼命“卡脖子”的光刻机领域,取得了一项重要的研究成果。 据悉,中国科学院上海光学精密机械研究所的研究员林楠,日前带领着一支研究团队,成功建立了一个EUV光源实验平台,而且所取得的运行参数,已经达到了国际前列。 而带领团队取得这一研究成果的林楠,曾在荷兰光刻机巨头阿斯麦公司负责光源技术。 2021年,也就是美国逼迫盟友,在芯片领域限制对华出口之时,他毅然选择回国,帮助中国寻求破局之法。 更重要的是,这次林楠团队的成果,让最喜欢污蔑中国“偷窃技术”的西方,也无话可说了。 因为,阿斯麦公司采用的是二氧化碳激光驱动技术,而林楠团队却是研究固体激光驱动技术,成功开发出LPP-EUV光源。 当然,中国跟西方的差距依旧存在,当前商用二氧化碳激光驱动的EUV光源转换效率,大约在5.5%左右,这次林楠团队所研发的固体激光驱动技术,光源转换效率大约在3.42%,大概落后西方四五年。 不过,还记得以前,西方曾讽刺中国大陆的芯片技术,起码落后西方50年,但随着这些年的发展,这个差距在他们口中,慢慢缩减到了20 年、15年,乃至现在开辟新的赛道,再次缩短了与西方的差距。 而且,这远不是林楠团队的极限,根据研究过程中印证出的结果,他们认为这次所建的光源实验平台,理论上的最大转换效率可能会接近6%,达到当前阿斯麦公司的商用水准。 面对中国自主研发的成果,阿斯麦公司也倍感压力,他们自然知道林楠的研究水平,所以早早预料到了中国在制造EUV光源方面,很可能会迎来成果。 然而,他们的嘴还是很硬的,坚持认为中国哪怕制造出了EUV光源,也需要很多年才能制造出先进光刻机。 原因也很简单,EUV光刻机作为世界顶级的光刻机设备,想要自主研发制造,不只是要攻克光源技术,比如美国也研究出来了光源技术,但真正能制造出EUV光刻机,放眼全世界也只有阿斯麦公司。 这也是为什么,美国手段频出,也要施压荷兰政府限制阿斯麦公司,不许其对华出售先进光刻机。因为西方相信只要阿斯麦不卖,就能一直在芯片领域,卡住中国的脖子。 只不过,过去的历史一次次证明,美西方越是打压封锁,中国自主创新的脚步就会越快;美西方越是拉拢盟友,中国的朋友圈就会越扩越大。 从航天到民生,从太阳能到芯片,如今,中国在科研领域取得的一道道成果,没有一样不是靠斗争拼出来的。 相信在14亿人的共同努力下,没有困难是打不倒的,没有技术是突破不了的。5年、10年,技术总会迎来突破的那一刻,中国人的奋斗之路,绝不会因为西方的胁迫而动摇。