该来的终于来了，ASML不愿面对的结果出现，外媒：来不及了

文 | C君科技排版 | C君科技

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芯片制造成为2019年之后，全球主要的技术发展议题，伴随着芯片规则的改变，芯片自主化的呼声越来越高，在这样的场景下，各地区都开始加码芯片产业链的构建，但是在整个芯片产业链构建的过程中，有一项技术似乎很难绕过，那就是光刻机。

由于光刻机零部件众多，涉及到的产业链极为复杂，所以到目前为止全球顶级的光刻机厂商并不多，至于EUV光刻机更是只有ASML一家，这也让ASML公司成为各家芯片制造工厂的“座上宾”，因为只有获得了更多的EUV光刻机，才能够在高阶芯片的生产供应上占据更大的主动权。

不过，ASML公司并不是一个中立的公司，这一点从2018年中芯国际向ASML下订单，订购EUV光刻机，可是到目前为止，这台EUV光刻机都没有发货就可以看明白。

而在ASML公司暂停了对我们的EUV光刻机的供应后，我们的中科院、清华大学等机构也开始快速加码EUV光刻机的突破工作，力求在短时间内解决掉国内EUV光刻机的空白。

但是，面对着我们在EUV光刻机领域的努力，ASML公司的CEO却给出了一个刺耳的回复，其表示，就算是把图纸给我们，我们也无法制造出EUV光刻机。这话说得非常自负，不可否认，EUV光刻机的制造难度的确很大，但是它并非就是无法被打造的，毕竟任何东西都是可以被制造的，盾构机当年是这样，特高压是这样，EUV光刻机也会是这样。

而在我们加速EUV光刻机技术突破之时，在8月22日，媒体方面传来了一则全新的消息，这则消息的出炉似乎意味着该来的终于来了，因为据悉东京理科大学学者在纳米压印技术研究上取得突破，实现了紫外硬化纳米压印创建10nm一下发不了形貌的突破。

说得简单直白一些就是，利用压印技术能够实现10nm以下芯片在晶圆上的印刻，所达到的效果和光刻机是一样的，其实对于这项技术已经不是第一次听说了，在2021年底的时候，日本公司方面就传来了利用纳米压印技术实现15nm芯片的量产，注意说的是量产而不是实验室研究阶段，这也就是说纳米压印已经可以进入商业应用阶段了，如今短短半年时间，就被推进到了10nm制程以下，足可见纳米压印技术的前景之广阔。

并且需要注意的是，纳米压印技术在成本和实现上都要比光刻机便宜和简单许多，因此这则消息的传来，似乎意味着ASML公司不愿面对的结果出现了，因为从2004年以来，ASML公司在台积电和英特尔的帮助下，好不容易才一步一步利用技术优势走到了全球光刻机龙头的地位，如今却被告知有新的技术可以替代光刻机实现芯片的光刻环节，并且精度已经进入到了10nm以下，ASML自然不想面对。

而纳米压印技术也并不神奇，举个例子来说，纳米压印技术就像是盖章子，雕刻完成印章后，通过印泥可以把印章上的图案印在很多个纸张上，而纳米压印也是一样的道理，通过压印技术，把电路图印在了晶圆上。只不过由于这种压印的方式会让压印模板直接接触压印胶等设备，这会造成压印模板寿命较短，同时由于与压印胶接触，会造成模板污染，继而造成印刻的电路图出现问题。

而这一点在光刻机上面就不会出现，毕竟光刻机的原理是通过曝光的方式，类似于照相机照相，所以反复利用率较高。

不可否认光刻机有光刻机的优势，但是在芯片市场开始新一轮竞争发展的情况下，纳米压印技术的确会成为各地区在芯片制造领域弯道超车的最好技术之一，毕竟只需要攻克纳米压印过程中的一些瑕疵问题，纳米压印将会爆发出比光刻机更加灿烂的优势。

同样的，纳米压印技术也是我们在构建自主芯片产业链过程中可以参考发展的一个方向，毕竟相较于EUV光刻机，纳米压印的研发周期会更短，并且如今利用紫光来进行纳米压印可以无缝对接当下的芯片制造产业链，因为纳米压印的下一个环节就可以蚀刻，和使用光刻机光刻的效果和流程一样，降低了替换成本。

面对着这则消息，外媒方面也是传来评论表示，“ASML被坑惨了，如果不是芯片规则的改变当下全球一体化的芯片产业模式下，根本就不会有企业有动力去推动替代EUV光刻机的方案出来，那么ASML公司依旧可以稳稳坐着光刻机龙头的位置，但是现在一切都来不及了”。

因为目前全球都开始加速EUV光刻机的研发工作，尼康、佳能这些之前已经退出光刻机市场的巨头也重新回来了，另外替代EUV光刻机的方案也被推了出来，这一切最终都会导致ASML一家独大的局面的瓦解。

你看好纳米压印技术吗？你觉得ASML公司还能够在光刻机龙头的位置上坐多久呢？未来ASML公司会不会因为我们突破了光刻机技术或者是纳米压印技术而走向覆灭呢？

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