提到光刻机，大家都不陌生，只要你关注芯片和半导体行业，光刻机的名字一定是非常熟悉，因为它是生产芯片最重要的核心设备。
光刻机有三大核心技术，第一个就是光源技术，然后是镜头技术，还有工作台技术，尤其是工作台技术，它需要硅片在工作台能实现高精度的定位，要达到纳米级别，以确保光刻图案的准确和重复性。所以说，芯片行业往往越小越精细的东西，难度越大。
目前高精尖的光刻机被全球三大公司垄断，第一家就是大名鼎鼎的阿斯麦，总部位于荷兰。能实现7nm以下的芯片制造，第二家是尼康，第三家是佳能，后面两家不光是生产相机，也做半导体，但是荷兰的阿斯麦几乎占了大头。
因为缺乏关键设备来生产芯片，也导致我国的半导体行业发展一直阻力重重。但是最近哈尔滨工业大学做出了新的突破。
哈工大航天学院赵永鹏教授团队研发出了可以供应13.5nm的极紫外光技术。极紫外光源是EUV光刻机的核心部件，这项技术此前一直被国外垄断。
哈工大这一突破，也是为将来制造EUV光刻机扫清障碍，相信不久的将来，我们不会再受制于人，真正实现国产芯片自主可控。
