众所周知，我们高端芯片被“卡脖”子，并不是因为国内没有设计高端芯片的企业，而是缺少可以生产高端芯片的企业，归根结底的原因还是缺少EUV光刻机这个制造高端芯片所必须用到的关键设备。

事实上，以中科院为首的科研机构和相关企业一直都在专攻EUV光刻机技术，为了尽快突破EUV光刻机技术，几年前我国科研团队远赴荷兰ASML总部“学习”却遭到了ASML首席技术官的“嘲讽”：即便把图纸给了你们，你们也造不出EUV光刻机。话里话外都透露着“冷嘲热讽、蔑视”。

更为关键的是，老美为了遏制我国半导体芯片领域的发展，修改全球芯片规则，切断了我国获得EUV光刻机的途径。也就是说，ASML已经成了老美制裁我国半导体发展的工具。可能有很多网友会问：几十年前我们在什么都没有的条件下，“两弹一星都造出来了”，现在的条件比以前好了几百倍，要什么有什么，为什么就造不出EUV光刻机呢？

不可否认的是，EUV光刻机作为当代工业的“大脑”，更是集全球人类的智慧所研究出来的光刻设备。其制造过程确实很复杂，难度也是难如“登天”，需要来自全球35个国家，5000多厂家的超10万个零部件，其制造难度不言而喻。更别说单靠一个国家或一个企业的力量造出来了。

然而，我们中国人自古就不信邪，EUV光刻机再复杂，再高端，也不是神造的，只要是人造出来的，中国科学家就一定可以“铲除”一切试图阻碍我国科技发展的“妖魔鬼怪”，攻克技术难关，制造出属于我们自己的EUV光刻机。

要知道光源、投影物镜、工件台是光刻机的重要构成部分，经过科学家不懈的努力已经掌握了大部分EUV光刻机技术，清华科研团队研究发现了一种新型光源，已经证实可以用在EUV光刻机上面，另外，国产光刻机已经突破90nm，28nm也在测试阶段，相信用不了多久就可以量产商用。

对于国产光刻机的发展速度，业界有目共睹，就连ASML方面也公开感慨道：如果继续禁止向中企出售EUV光刻机，那么五年后，中国就会掌握所有的EUV光刻机技术！届时，在半导体领域将再无任何障碍。

然而，老美为了遏制我国半导体芯片崛起，已经到了“丧心病狂”的地步，今年多次向荷兰方面施加压力，游说ASML公司，停止向中国市场出口用于14nm等成熟芯片制程的DUV光刻机。老美为了达到目的，丝毫不在乎ASML的“死活”，而这样“搅屎棍”的做法也终将得到反噬。

面对老美的无理要求，这一次ASML并没有“惯着”，而是正面拒绝了老美扩大向中企出售光刻机的要求，并公开宣称，我们是一家欧洲企业，对于成熟的DUV光刻机出货不受任何限制。同时做出了在外界看来向老美“反水”的决定：在2026年之前将EUV光刻机产能提升到90台，DUV光刻机提升到600台！

受老美“禁令”影响，全球半导体行业进入“寒冬”，而作为以出口为主的美芯企业更是雪上加霜，英伟达、AMD、高通等芯片巨头纷纷开始进行缩减开支。而台积电等芯片制造巨头也关闭部分光刻机。在全球市场持续低迷的情况下，ASML提升产能又准备卖给谁呢？很显然是目前正在大力实现芯片国产化的中国市场。

对于ASML近乎“反水”的决定，在很多外媒看来是受到任正非：和平是打出来的这句话的影响。

早在老美修改芯片规则断供华为芯片的时候，华为就成立了多个“军团”，并且在成立大会上，任正非说出了广为流传，且充满斗志的话：“和平是打出来的，我们要用英勇牺牲，不畏艰难的精神，打出一个未来三十年的和平环境，让别人不敢再欺负我们”。

近几年，老美仗着技术领先的优势，到处胡作非为，横行霸道。使得全球半导体市场“哀鸿遍野”，华为、台积电、英特尔等科技企业承受巨大经济损失。华为敢于天下先，第一个公开向老美发起“反击”，通过两年多的“卧薪尝胆”，现在已经走出阴霾，翻过技术封锁的“大山”，走出了光明大道。

对于近期，英伟达、ASML等企业主动寻求与中企合作方法的行为，想必也是受到华为任正非“和平是打出来的”这句话的影响，开始有意无视老美的“禁令”。

尽管ASML、英伟达等科技巨头主动寻求与中企合作的芯方法，但我们也不能把希望寄托在别人身上，相反更应该加大自主研发的力度，加快核心技术突破，拥有自主可控的半导体设备，放弃对别人的幻想。就像中国院士倪光南说的：核心技术是买不来，求不到的，我们必须放弃幻想，自主研发掌握核心技术，才能摆脱被“卡脖”子的命运。