光刻机作为芯片制造过程中必不可少的半导体设备，有着“半导体工业皇冠上明珠”的美称，是半导体产业链最精密的设备，更是芯片制造的核心设备。然而，就是这么至关重要的半导体设备，一直被美国、日本、荷兰掌控着核心技术，并对我国光刻机发展进行限制。

众所周知，目前全球能够生产光刻机的厂商微乎其微，荷兰的ASML、日本的佳能和尼康占据全球主要市场，其中ASML技术最为先进，是唯一可以生产制造先进芯片所需的EUV光刻机的厂商。不过，美日荷已经达成三方协议，并宣布在光刻机及其技术和设备上对我国实施出口限制。

要知道，在光刻机领域，我国曾经也是站在世界“第一阵营”的，比如1965年研制的65型接触式光刻机以及1985年的分布式光刻机样机。虽然，当时我国半导体产业起步较晚，但与国外先进水平相差不超过7年。让人遗憾的是，正当我国光刻机要步入正轨的时候，国内兴起了“买办”思想，诸多中企纷纷开始从国外购买光刻机，导致我国光刻机的研发近乎中断。

然而，随着中美科技竞争的持续升温，“买办”思想的弊端就开始显现了，为了遏制我国半导体领域的发展，美国凭借基础科技优势以及掌握的核心技术，强行修改规则，威逼利诱盟友对我国实施半导体领域的遏制。比如“芯片四方联盟”、美日荷三方协议等，对我国半导体领域进行“卡脖子”。可以说，美国凭借掌握的先进技术，在对华高技术限制上，打了一手“好牌”。

不过，在美国及其盟友的持续加码限制下，我国不管是国家层面还是科研机构和相关半导体企业，纷纷加大了对半导体光刻机的技术攻关和自主研发，在我国科研人员夜以继日的努力下，光刻机产业链上下游，不断取得技术突破，加快了国产光刻机的问世。

让人兴奋的是，近期有消息称，上海微电子致力于研发的28nm浸没式光刻机预计在2023年底实现量产，并完成交付使用，这一消息在我国光刻机领域上无疑是划时代的。对此有美媒纷纷发文表示：我们封锁了什么？

要知道，在2002年我国专家出国考察学习时，荷兰ASML的工程师表示：“哪怕把所有图纸都给你们，你们也未必能够生产出光刻机”，言语中满是轻视和蔑视。

面对这样的嘲讽，回国后上海微电子董事长贺荣明带领团队夜以继日的对光刻机技术进行攻关，相继取得诸多技术的突破，目前已经可以量产90nm的光刻机，28nm的光刻机在今年底也有望取得突破。

值得注意的是，上海微电子取得的突破只是我国光刻机走向自主可控的一个缩影。近年来，在我国科研人员的努力下，在光刻机产业链上的各个环节均已取得突破性进展，比如福晶科技的光源、奥普光电的物镜系统以及光刻胶、涂胶显影等。可以说，在光刻机产业链上下游企业的共同努力下，光刻机国产化率正在稳步快提升。

另外，除了光刻机领域，被誉为新一轮科技革命的量子科学领域，我国已经走在世界前列，据统计我国在量子科技领域掌握的专利已经占比全球一半以上，力压日本以及美国等西方国家，为我国在芯片领域“换道超车”提供了强大的技术支持。

值得一提的是，华为的超导量子芯片专利技术，使量子芯片的良品率得到显著的提高，已经超过英特尔；本源量子也已经研发出我国首个全国产的超导量子计算机本源悟源。

随着我国在核心半导体原材料上实施出口管制，那些拥有先进技术的西方国家，也终究会陷入“巧妇难为无米之炊”的地步，尤其是镓和锗。据悉，美国已经开始计划从“废料”中回收镓，而同为美国遏华阵营的韩国，在相关原材料的储备上已经到了最高支撑一个月，最低支撑6天的局面。

美国及其盟友实施的限制措施，短时间内可以对我国半导体产业发展造成影响，但随着我国相继实现技术突破，限制的影响正在逐步降低。而我国在核心半导体原材料的反制，他们短时间内根本无法解决供应链问题。

不管是半导体领域的技术攻关，还是量子芯片的换道超车，我国均已取得可圈可点的成果。要知道，我国要市场有市场，要人才有人才，更有生机勃勃的全产业供应链，实现半导体产业链全面国产化只是时间问题。尽管目前我国半导体先进芯片依然面临各种技术难题，但随着国家政策的倾斜和科研人员的努力下，一定可以实现核心技术突破。