国产光刻机再传喜讯，ASML不愿看到的情况正在发生

文 | C君科技 排版 | C君科技

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国产光刻机再传喜讯，ASML不愿看到的情况正在发生

2010年，ASML正式出货了全球第一台EUV光刻机，从那一刻开始，光刻机进入到了极紫外光刻时代，也因为EUV光刻机的出现，将芯片制程的发展进行了提速，同时为了巩固自己在光刻机市场上的领导地位，ASML要求所有合作伙伴必须投资它，否则就不合作，所以在早期英特尔、三星电子、台积电等都成为了ASML公司的股东，这么模式让全球顶级的芯片巨头都和ASML公司进行了深度捆绑，形成了利益共同体，也是在这种商业模式之下，才导致佳能、尼康光刻机业务的日益衰落。

但是，这种垄断性质的发展模式也存在着弊端，那就是由于大部分的光刻机订单都被ASML公司吃掉了，其他光刻机制造公司订单就小得可怜，继而就逐步放弃或者放慢了对于光刻机技术的迭代速度，在这种情况之下，ASML公司和其他光刻机公司的差距越拉越大，这就造成了任何芯片制造公司想要发展都需要看ASML的“脸色”。

这也是为什么中芯国际在2018年向ASML公司下订单后，即便ASML迟迟不交付，也没有太多办法进行替代的根本。

而为了摆脱这种受制于人的局面，也为了弥补我们在EUV光刻机领域的“短板”，从2020年开始，我们开始大规模投入对EUV光刻机的研发工作，面对我们的自主研发的行动，ASML公司CEO却是给出了评论表示，即便是给我们图纸，我们也无法制造出EUV光刻机。

这话说得有些过于自负了，其实说得简单一些，光刻机的工作原理就和照相有些类似，只不过照相是把拍摄的东西印在胶卷上，而光刻机却是通过曝光等方式，在晶圆上刻画出电路图。

其中，想要突破EUV光刻机技术最为核心的三大要素就是，光源、镜头和双工作台，光源方面，EUV光刻机需要的是波长在13.5nm的极紫外光，而在光源方面，ASML公司主要依赖的是从老美手中进口来解决，而之前2021年6月28日，国内首台高能同步辐射光源科研设备的落地意味着为先进光源的建设、运行和后续发展提供了技术支持，将助力EUV光刻机所需光源的落地。

镜头方面由于EUV光刻机对于镜头精度有着很高的依赖，所以目前ASML公司唯一依靠的就是德国蔡司，国内相关企业也在努力发展。至于双工作台方面，华卓精科正在双工作台技术上加速破局，因此其也被称之为国产光刻机第一股。

而在国内企业、科研单位不断加码国产EUV光刻机突破之时，根据8月15日最新消息显示，国产光刻机再传喜讯，据悉传芯半导体公开用于EUV光刻的曝光成像结构、反射式光掩模版组及投影式光刻机专利。这则消息的出炉，意味着我们距离国产EUV光刻机的突破又进了一步。

虽然说，EUV光刻机的制造难度非常大，涉及到的零件众多，但是我们的企业都在共同努力，所以突破一定是必然的。

而面对着国产光刻机新的喜讯传来，外媒方面也是传来评论表示，“ASML不愿看到的情况正在发生”，因为伴随着我们越来越多的有关于EUV光刻机技术的破局，那么最终国产EUV光刻机必定会出现，届时ASML公司通过数十年在光刻机市场建立起来的垄断局面将被彻底打破，届时ASML公司将蒙受巨大损失。

首先，就单单从ASML公司在2022年一季度的数据来看，其在该季度生产制造了62台光刻机，其中21台出口给我们，占据了出产总量的34%，如果说我们自己的EUV光刻机问世，那么ASML公司就会在我们的市场上失去份额，这对于ASML公司自己来说就会是巨大损失。

其次，当我们能够生产制造EUV光刻机之后，我们就拥有了市场竞价权，我们可以以更低的价格进行销售，这势必会影响到ASML公司的销售策略，进而影响到ASML公司的营业总收入。

这样的局面是可以预见的未来，但是ASML公司却无法阻止，因为从ASML公司没有按时交付EUV光刻机给中芯国际开始，就已经注定了ASML公司在全球市场垄断的局面势必会被打破。

造成这种局面的存在和出现，ASML只能去怪老美，如果没有2019年芯片规则的修改，没有一系列的限制，就不会有我们对于光刻机的执着，ASML公司也可以多逍遥几年。

你认为我们还需要多久才可以实现EUV光刻机的全面突破呢？

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