运营商财经 康钊/文
据国外科技网站 Wccftech 的文章，近日ASML（即阿斯麦）首席执行官表示，中国或许能够设法生产一些3纳米或者5纳米芯片，但是由于只能利用较旧的DUV技术，无论良品率还是产能都会受到限制。这句话的似乎在说中国光刻机技术依旧落后，其实也是在给中国芯片业敲警钟。
阿斯麦对中国光刻机技术的评论可能源于华为手机芯片，去年华为推出的Mate60及今年推出的Pura70手机都显示出华为突破了7纳米芯片工艺。国外科技网站i曾拆解了华为Pura 70 Pro手机，发现麒麟9010处理器外部标记似乎与在中国某公司7nm节点上生产的旧版麒麟9000S相匹配，据此认为麒麟9010采用了中国某公司的7纳米工艺节点。这可能触动了阿斯麦的神经，阿斯麦公司当然不希望中国企业能在没有其EUV光刻机的情况下能生产5纳米以上工艺的芯片，否则其EUV光刻机旧没法卖了。
没有荷兰的新款EUV光刻机，中国到底能否生产5纳米芯片呢？其实，不用EUV光刻机，也能造成7纳米芯片或者更高工艺的芯片。台积电第一代7纳米芯片，就是浸润式DUV光刻机制造出来的，而华为Mate60上的芯片，也验证了这一点。台积电前副总裁林本坚认为，现有DUV 设备制造不仅能制造7纳米，甚至5 纳米芯片也是可行的，不过将非常昂贵。这个说法与阿斯麦的类似。不过，林本坚又说，成本很重要，但没有进入5nm重要。也就是说，较旧的DUV技术可能被阿斯麦公司嫌弃，但对中国来说还是很有用的。
