对于EUV光刻机，在过去4年被赋予了太多的光环，甚至可以说已经被神话了，原因很简单，因为EUV光刻机已经被判定为，通往高端芯片制造的“门票”，也正是基于此，作为全球唯一一家有能力生产制造EUV光刻机的厂商ASML公司也被各大芯片代工巨头奉为座上宾。

但是，在2018年，ASML公司因为老美的要求停止向我国中芯国际发售EUV光刻机，这让我国在高端芯片制造领域陷入到了被动局面里，为了解决这种被动局面，在过去几年里，我国的顶级科研机构、高校以及各大民营科技巨头都在纷纷加码光刻机技术，希望能够在短时间内，在EUV光刻机领域获得大的突破。

可是，面对着我国对于EUV光刻机的聚焦，无论是老美还是ASML公司都传来了冷嘲热讽，他们都认为我们不可能打造出EUV光刻机，因此，他们更加不可能相信我们有能力打造出高阶芯片。

但是，华为Mate 60 Pro的发售却狠狠地打了欧美的脸，因为根据数据显示，我们没有依靠EUV光刻机，在老美的限制之下，依旧生产制造出了精度接近7nm的麒麟9000S芯片。

对于华为的操作，外界很是震惊，特别是白宫，更是放话要调查华为的供应链，之所以这么做，就是想要完全限制死我国国产芯片的发展可能。

但是，最近一则新消息的出炉，似乎意味着EUV光刻机不香了，因为上海创消技术发展有限公司放出了大招，根据数据显示，这家中企正在神器5nm芯片制造的直接蚀刻方法，并且专利已经进入到了申请公布阶段，这也就是说，该专利已经通过了初步审查，算是一只脚跨入了成功，接下来只要实质审查通过，就意味着这项专利彻底稳了。

而面对这则消息，外媒给出的评价是，如果最终成功申请通过，那么这将比华为Mate 60系列的发布更加惊艳，同时也意味着拜登要彻底慌了，因为这意味着老美的封锁将彻底失效。

其实，这也不是什么新鲜事情，因为早在之前，日本和韩国就因为EUV光刻机的造价过高，技术复杂所以对于EUV光刻机的替代技术展开了研究，纳米压印技术就是在这种场景下脱颖而出的，并且根据最新消息显示，纳米压印技术也同样是进入到了5nm阶段。

不过，相比之下，上海创消技术发展有限公司的这项技术的确更加高级一些，因为根据该技术的介绍显示，按5nm蚀刻线宽设计芯片版图，设计蚀刻掩模版后，用激光直写光刻机刻出蚀刻掩模版；晶圆准备好后将蚀刻掩模板紧靠晶圆上表面，用等离子体进行干法蚀刻。

这就相当于直接从胶卷相机进入到了数码相机时代，没有了洗胶卷这个步骤，而纳米压印的本质依旧是存在洗胶卷这个过程。

其实，对于高阶芯片技术的突破难度并没有我们想象中的那么那么大，毕竟在任何技术发展的时候，从无到有的创新才是最难的，提高技术的上限是第二难得，但是，看到上限，想办法去追逐上限，这个过程反而是相对比较容易得，而我们也没有说按照老美当年的路子，重新走一遍老美过往的发展路程，我们是同步开工，直接寻找新的突破方案，这无疑会让追逐的时间缩短很多。

这一点是欧美没有想到的，所以接下来就让欧盟见证我们在半导体领域的超越吧。