喜报！中国最强刻蚀机厂官宣：实现原子级精度

在工业发展的浩瀚星河中，各类顶尖技术宛如璀璨明珠，因此，各类尖端技术被称为“工业明珠”，以前这些“工业明珠”都掌握在西方国家手里，我们只能眼馋。

不过，我们也没闲着，一路拼命追赶。现如今，高铁在神州大地上风驰电掣，5G引领时代，航天飞船冲向浩瀚宇宙，大飞机也翱翔于蓝天，一颗颗过去觉着遥不可及的 “工业明珠”不断被我国收入囊中。

眼下，芯片这颗最为耀眼却又最难摘取的明珠，也正在被我国科研人员全力攻坚，而国产刻蚀机取得的重大突破，无疑是这场攻坚战役中的关键捷报，让世界为之瞩目。

简单科普下，芯片制造流程主要分为设计、光刻、蚀刻、沉积、测试五大环节，每个环节都需精密设备和复杂工艺，其中蚀刻和光刻重要程度差不多。

你可以这么理解，光刻就像是芯片制造里的 “绘图师”，先用光照这把 “神奇画笔”，把设计好的电路图案，从模板精准地 “画” 到涂有光刻胶的晶圆上。

而蚀刻呢，就好比是 “雕刻匠”，紧盯着光刻 “画” 好的图案，操起化学溶液或者等离子这些 “雕刻工具”，把晶圆上不需要的材料一点点去掉，把芯片的电路实实在在地给 “雕刻” 出来。从而形成实际的电路结构。光刻一般先于蚀刻进行，二者紧密配合完成芯片电路的成型。

近日，中微董事长尹志尧表示，中微刻蚀机在实验室里做到了0.02nm的精度。这啥概念？

简单来讲，原子一般直径差不多0.1nm ，中微这0.02nm的精度，基本就是能在原子那个微小级别上搞加工了，就好像拿着一把超级精细的“雕刻刀”，能精准摆弄单个原子、分子，这技术牛得没话说。这一成就标志着中国在高端半导体设备制造领域达到了世界顶尖水平。

在美国接二连三的封锁与打压之下，我国并没有退缩，反正在全力构建起独属于自己的芯片产业供应链，彻底摆脱对国外的依赖，向着芯片领域的自立自强大步迈进。

这不，现在中微刻蚀机已经站到世界前沿了，技术指标跟国外那些大牌比一点不差，更令人骄傲的是，它里面的零配件在去年中旬已经实现90%国产化，并预计在年底实现100%自主可控。

可以说，在刻蚀机领域，我们不用担心被人“卡脖子”，能稳稳当当靠自己把半导体产业往前推。

不仅如此，我国在光刻机领域也有了重大突破，去年九月份工信部公布一款国产光刻机——“氟化氩光刻机”，其分辨率达到65nm以下，套刻精度为8nm以内，可用来生产28nm工艺芯片。

前面讲到的中微刻蚀机和光刻机都很争气，让世界都看到了中国力量！但是，芯片产业芯片产业要想一路高歌猛进，光有厉害的硬件设备可不够，还得有强大的 “幕后军师” 来统筹协调，这 “幕后军师” 就是软件。比如EDA软件、仿真软件、模拟软件、控制软件、管理软件等。

目前，在软件方面，国产可替代的也有很多，比如华大九天的EDA软件、北方华创的工艺控制软件、中望的CDA软件、云表的管理软件等。

以云表平台制作的管理软件为例，它可以对芯片制造过程中产生的大量设计数据、工艺数据、测试数据等进行存储、管理和共享，方便工程师随时查询和使用，如PDM、PLM等系统。

还可以很好的管理芯片零件供应和质量检查等环节。比如说零件采购吧，它能算好什么时候该买多少，放在仓库里多少合适，这样就不会因为零件不够生产就停了。质量检查的时候，要是发现有问题，它能很快知道是哪个环节出的事，方便解决。

往后看，只要继续坚持创新、不断升级产业，芯片这颗“工业明珠”以及未来可能产生的其他“工业明珠”都将被我国稳稳收入囊中。

终有一天，我们将集齐“工业明珠”全图鉴！

要是觉得内容对您有帮助，记得顺手点个赞哟~，大家有什么问题欢迎留言关注！

文：天地