据彭博社报道，荷兰光刻机巨头阿斯麦公司（ASML）首席执行官温宁克在近日接受采访时表示：“美国主导的针对中国的半导体出口管制措施，最终会促使中国在高端芯片制造设备领域成功研发出自己的技术”。这段采访，乍听起来颇有些“激动人心”，甚至会有一些人在旁边劝大家要“理智”。不过，温宁克的担心是不无道理的，暂且不说关于盾构机的励志故事，单说半导体行业，我们的光刻机技术就曾经达到过国际一流水平。
在上个世纪中后期，因为光刻机的制造技术复杂，国际“巴黎统筹委员会”将其列为尖端技术产品，对华实行封锁禁运。此时，由徐端颐带队，从零开始攻克难关，在1971年研制出中国第一台光刻机和分步重复照相机。1980年，完成了“自动对准分步投影光刻机”，这项技术直到今天，只有美国、日本等少数国家能制造这种设备。该团队一直对光刻机技术进行更新，1991年的时候，第三代“自动对准分步投影光刻机”向中外专家和记者展出，很多专家对中国能制造出此设备感到非常的惊讶。
这次展览会以后，国际“巴黎统筹委员会”便宣布，取消对华出口投影光刻机的禁运令，而且还对国内有需求的企业开出了很诱人的优惠条件，因此，国产的光刻机顿时失去了市场。所有的努力付诸东流，但是，国外的光刻机研制却不停发展，逐渐走上了高端序列。
国内在光刻机领域的现况如何？通过华为事件，我们都意识到，不管你的芯片设计技术多么高超，只要你不掌握生产环节，还是很容易被别人卡脖子。但是，想要自研光刻机是很不容易的，当前的光刻机分为两种：DUV和EUV光刻机，前者用于中低端芯片的研发制造；而我们被禁运的就是荷兰的ASML生产的高端光刻机，这种光刻机需要几十个国家提供上万个零件才能组建。就是在这种情况下，上海微电子在28nm光刻机工艺上也取得了成就，毕竟这些高端的设备，除了决心以外，还需要机遇和时间。
就像汽车市场一样，国内的燃油车和国外有一些差距，但是我们提早布局新能源汽车，在一定程度上实现了“弯道超车”。同样，国内的半导体行业也在通过不同方式实现突破。就比如我们一直在聚焦的光子芯片和芯粒技术，以及部分企业聚焦的光刻胶领域的攻关，都是助力我们快速缩短差距的关键。
ASML作为一家企业来讲，肯定不希望被各种禁运令来减少订单，但是作为一家企业，它肯定无法与国际上操控禁运令的国家相抗衡。相信不久的将来，我们终归实现自主创新，走在光刻机或芯片行业的前列。
