国产氟化氪光刻机和氟化氩光刻机的问世,是中国科技力量的集中体现。光刻机,这一被誉为“半导体工业的心脏”,在芯片制造过程中起着至关重要的作用。它通过精确的光束投射,将复杂的电路图案刻在半导体材料上,从而构建出精密的集成电路。而光刻机的精度和性能,直接决定了芯片的线宽和整体性能。
中国的氟化氩光刻机已经达到了全球第四代光刻机的水平,其光源实际波长已突破193nm,缩短至134nm,NA值为1.35,这意味着它有能力实现7nm的制程节点,这在芯片制造中意味着更高的性能和更小的体积。这不仅标志着中国在光刻机制造技术上的重大突破,也预示着中国向第五代光刻机,甚至是更先进的EUV光刻机迈进的步伐将更为稳健。