​有EUV光刻机也不牢靠了?中企光刻技术相继突破,ASML着急了!

圈聊科技 2025-01-13 17:59:22

有EUV光刻机也不牢靠了?中企光刻技术相继突破,ASML着急了!

在半导体制造的璀璨星空中,光刻机无疑是最为耀眼的那颗星,而 ASML 曾是操控这颗明星的王者,凭借着卓越超群的光刻前沿技术,其精心打造的EUV光刻机,单台售价竟高达 30 亿人民币,成为全球同类设备单价的巅峰之作。

然而在美国的压迫下,行业形势突然改变,ASML 的垄断优势就此被打破,走进如今 ASML 的仓库,那一台台曾经被视作 “印钞机” 的光刻机,如今层层堆叠、堆积如山,已然变成了沉重的负担。

全球范围内,真正有实力和需求接纳 EUV 光刻机的企业寥寥无几,英特尔、三星、台积电等芯片制造巨头,早已完成深度布局,所需设备均已就位,而中国的中芯国际,虽怀揣对 EUV 光刻机的巨大潜在需求,却被美国无端挥舞的制裁大棒,冷酷无情地阻挡在购买大门之外。

祸不单行,全球芯片市场产能过剩的背景下,企业纷纷勒紧裤腰带,大幅削减开支,对新设备投资慎之又慎,在这双重巨大压力紧逼之下,ASML 的光刻机销售遇冷,已然低下当初那颗高傲的头颅。

ASML产能急速下滑

如今英特尔、三星、台积电产能增长缓慢,如今并不打算大量采购光刻设备了,同时美国为了维护自身在半导体领域的霸权地位,不择手段地对中国企业进行制裁,直接将中芯国际列入 “实体清单”,禁止美国企业向其提供先进的芯片制造设备和技术,其中就包括 EUV 光刻机 。

这一禁令犹如一道紧箍咒,严重限制了中芯国际的技术发展和产能提升,中芯国际原本计划通过引进 EUV 光刻机,实现芯片制造工艺从 14nm 向 7nm 甚至更先进制程的突破,从而在全球芯片市场中占据更有利的地位。

然而美国的制裁使得这一计划化为泡影,中芯国际的发展步伐被迫放缓,无法获得先进的 EUV 光刻机,导致无法深入布局更为先进的制程工艺,高端市场份额受到一定程度的挤压,这不仅对中芯国际自身的发展造成了巨大打击,也减少了全球光刻机市场的潜在需求。

美国不仅对中芯国际进行制裁,还联合荷兰等国,对光刻机的出口实施严格限制,美国通过政治施压等手段,迫使荷兰对 ASML 公司的光刻机出口许可证进行管控,限制向中国出口先进的 EUV 和部分 DUV 光刻机 。

这一举措严重阻碍了中国半导体产业获取先进设备的途径,使得中国企业在光刻机技术引进方面面临重重困难,中国半导体产业不得不加大自主研发的力度,以突破国外的技术封锁,但这需要大量的时间、资金和人力投入。

中国光刻机的突破之路

在我国光刻机的研发征程中,上海微电子无疑是中流砥柱,历经无数科研人员夜以继日的艰苦卓绝的攻坚奋战,上海微电子成功研制出了 DUV 光刻机 ,填补了国内光刻技术领域的空白,打破了国外长期以来的技术垄断局面,向全世界有力地证明了中国在光刻机技术领域的实力与决心。

这款 DUV 光刻机具备 90nm 及以下的芯片制造能力,在光源、光学系统、精密机械等多个关键技术环节取得了显著突破,其照明波长为 193 纳米,分辨率达 65 纳米,套刻精度为 8 纳米,已达到国际同类产品的较高水平,为我国芯片制造产业提供了重要的技术支撑。

在EUV光源技术方面,我国取得了令人瞩目的进展,哈工大自主研发了放电等离子体极紫外光刻光源,直接将光源技术提升到了13.5 纳米,这种电能产生等离子体提供紫外光的技术路线,与 ASML 的激光轰击锡液滴产生极紫外光的技术路线不同,为我国高端光刻领域光源的国产化需求提供了有力保障。

在零部件生产环节,众多国内企业积极投身其中,实现了部分关键零部件的国产化替代,以光刻机的光学镜片为例,国内企业在非球面镜片的制造技术上取得了重大突破,能够生产出满足高精度要求的镜片产品。

在整机制造方面,上海微电子等企业发挥龙头引领作用,整合产业链资源,实现了光刻机的规模化生产,此外产业链上下游企业之间的协同创新能力也在不断增强,形成了良好的产业生态,从原材料供应、零部件制造、设备组装到售后服务,各个环节紧密配合,为我国光刻机产业的持续发展提供了坚实的基础。

ASML 态度转变:从轻视到示好

曾经在光刻机领域,ASML 凭借着自身的技术优势,在美国的影响下,对中国采取了技术封锁的傲慢态度,美国为了维护其在半导体领域的霸权地位,联合荷兰政府对 ASML 的光刻机出口进行严格管控 。

ASML 在美国的压力下,拒绝向中国出售先进的 EUV 光刻机,甚至对一些 DUV 光刻机的出口也设置重重障碍,这种拒绝不仅阻碍了中国半导体产业获取先进设备的途径,也体现了 ASML 对中国市场的轻视。

在当时ASML 认为中国在光刻机技术上难以取得突破,只能依赖进口,因此毫无顾忌地配合美国的制裁政策,试图将中国半导体产业扼杀在发展的摇篮中。

时过境迁,面对自身业绩下滑的困境,ASML 的态度发生了 180 度大转变,为了挽救业绩,ASML 开始急切地向中国示好,其将目光投向了 DUV 光刻机市场,甚至不惜放下身段,公然向中国企业喊话,鼓动购买二手设备。

ASML 之所以如此,一方面是因为中国作为全球最大的芯片消费市场之一,对其业绩有着至关重要的支撑作用,一旦失去中国订单,ASML 的营收将遭受重创。

数据显示,中国市场为 ASML 贡献了相当比例的营收,占 ASML 总营收的 20% 以上,另一方面ASML 妄图通过向中国倾销 DUV 光刻机,打压正处于成长关键时期的国产光刻机产业,稳固自身在全球光刻领域的霸主地位,但这样的如意算盘恐怕难以得逞。

美国的限制与打压

美国出于遏制中国科技发展的目的,悍然发起对中国的光刻机制裁,其深知光刻机作为芯片制造的核心设备,对于一个国家的半导体产业发展起着决定性作用,中国在半导体领域的快速崛起,尤其是在 5G 通信、人工智能、大数据等新兴技术领域的广泛应用,让美国感受到了巨大的威胁。

为了维护自身在半导体领域的霸权地位,美国以所谓的 “国家安全” 为借口,将中国的众多半导体企业列入 “实体清单”,禁止美国企业向其出售先进的光刻机及相关技术,企图将中国半导体产业的发展扼杀在摇篮之中。

美国不仅自身对中国实施制裁,还通过政治、经济等手段拉拢荷兰、日本等盟友,迫使其加入限制光刻机出口的行列,在荷兰方面,美国对荷兰政府施加巨大压力,要求其对 ASML 公司的光刻机出口进行严格管控。

尽管 ASML 公司本身希望能够继续在中国市场开展业务,以获取可观的经济利益,但在美国的干预下,荷兰政府不得不对 EUV 光刻机以及部分先进的 DUV 光刻机的出口进行限制,切断了中国企业获取这些先进设备的正常渠道。

在日本方面,美国同样迫使尼康、佳能等日本光刻机制造企业减少对中国的技术输出和设备供应,美国通过这种施压盟友的方式,构建起了一道针对中国的光刻机技术封锁网,试图从多个方面限制中国半导体产业的发展,其手段之强硬、用心之险恶,昭然若揭。

当然这对于我们来说,或许算得上是好事,这直接让中企摒弃了“造不如买、买不如租”的思维,全速启动了技术的自主研发,伴随着上海微电子DUV光刻机的研发成功,我们已然从底层摆脱了对于欧美技术的依赖,对此你们是怎么看的呢?

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