iPhone一直以来都存在拍照时的眩光和鬼影问题，但这么多年一直没有得到根本性的解决。最新消息是，苹果已经准备在下一代产品中解决这个痼疾。

有消息表示，苹果正测试新的抗反射光学涂层，以减少镜头炫光和鬼影等问题，从而提高照片质量。消息称，苹果正在考虑在iPhone相机镜头制造工艺中，引入新的原子层沉积（ALD）设备。

原子层沉积（Atomic layer deposition，ALD）是一种基于连续使用气相化学过程的薄膜沉积技术，可以将物质以单原子膜形式逐层镀在基材表面，从而极其精确地控制纳米级的厚度和成分，可以在不影响传感器捕光性能的前提下，有效保护镜头免受环境因素的损害。

目前 iPhone 镜头容易产生耀光，主要是外部强光会直接折射、反射和绕射到镜头内，才会造成相机模组到感光元件之间容易产生耀光情况，又加上现有的手机镜头抗反射涂层可能会遇到涂层不均匀，造成抗反射效果不佳。

原子层沉积是一种非常薄的工艺技术，其工艺原理有点像乐高积木，只不过积木的厚度大概只有原子般。ALD技术正是在多层原子薄膜的累积下沉积而成，因此能够在球状的镜头表面上，进行3D沉积薄膜。

据了解，通过使用这种新薄膜，iPhone 16系列能够最大限度地减少镜头光线反射造成的鬼影、光斑、眩光情况，在实际拍照中能解决很多问题，尤其是在明亮的光源拍照场景中，取景器和最终照片中都能减少亮点情况。

据了解，这种新涂层，只会使用在iPhone 16 Pro和iPhone 16 Pro Max中，两款标准版机型并不会使用。不过也有消息表示，考虑到ALD工艺的复杂性和对生产线的要求，苹果可能会在技术成熟并通过内部测试后，才会将其应用于大规模生产，所以iPhone 16系列几乎可以确定不会搭载该技术。

目前解决iPhone拍照鬼影的最有效办法还是通过调整拍摄角度的方式来实现，苹果虽然在过去两年用了一些算法手段来规避这个问题，但并没有从根本层面解决鬼影。相反的是国产品牌在这方面一直表现不错。比如vivo的拍照旗舰，就通过跟蔡司之间的合作，利用镀膜等手段很好地解决了夜间场景下的鬼影、眩光问题。

目前iPhone新的镀膜技术已经在研发之中，预计应该很快就会应用到新产品上。苹果用户吐槽多年的问题，终于可以缓解了。