中国能否造出顶级光刻机？
光刻机是半导体工业中非常重要的设备，用于在半导体芯片制造过程中将芯片图形化。由于光刻机的精度和性能要求非常高，其制造难度
中国科技水平和美国相比，还有多大的差距？
中国科技水平和美国相比，在许多领域都已经赶上甚至超越了美国。然而，也有一些领域中国仍然需要努力追赶，才能够与美国持平或者
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