不用光刻机也能造芯片？外企新消息传来，ASML猝不及防

文 | C君科技 排版 | C君科技

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由于最近几年美方面的限制问题，让全球都开始关注起了芯片制造产业链的构建问题，不光是在国内一批半导体企业开始加速芯片制造的国产化进度，在海外市场上也在积极推动芯片制造技术的发展。

但是，到目前为之有关于芯片制造环节中，有一环一直是绕不过去的，那就是EUV光刻机，在芯片的制造过程中，光刻环节是非常复杂的，特别是高精度的芯片制造，对于光刻机的光源更是有着极高要求，因此全球市场对于高精度EUV光刻机都是处于供不应的状况。

但是，到目前为之，全球仅有荷兰的ASML公司有能力制造EUV光刻机，可以说在EUV光刻机上，ASML公司实现了全球性的技术垄断，但是面对这种垄断，全球其它地区也是无可奈何，毕竟当下还无法打破ASML的这种垄断。

在这样的情况之下，ASML公司每年生产的EUV光刻机的售价也是卖到了近10亿元的高价，这就造成了芯片代工行业的巨大压力。

而在这种市场情况之下，最近外企铠侠一则新消息的传来，似乎是打破了ASML公司在EUV光刻机市场的垄断，根据铠侠方面的描述显示，它们已经实现了在不使用光刻机的情况之下也能制造芯片的能力。

这则消息的出炉带给业界的震撼效果是毋庸置疑的，毕竟一直以来在芯片制造的光刻环节中，普遍的技术手段就是使用光刻机来进行电路光刻，如今按照铠侠的说法是似乎可以绕过光刻机了，如果该技术真的成熟的话，那无疑会为芯片制造节省很多资金。

而根据铠侠方面的描述显示，这项技术就是纳米压印微影技术，据悉铠侠采用纳米压印微影技术制造芯片起步于2017年，如今已经掌握了15nm的量产技术，并正在向15nm以下的工艺研发，预计2025年开始生产，而纳米压印微影技术的电路精细度可以达到5nm，这也就是说，铠侠似乎有可能在不使用ASML公司生产的EUV光刻机的情况之下量产5nm工艺制程的芯片。

听到这则消息估计ASML公司是猝不及防的，因为如果真的这样了，那对于ASML公司的发展来说将会是重大打击，毕竟ASML公司最赖以生存的就是EUV光刻机技术。

同时，铠侠的这项技术似乎也能够帮助我国的一些企业摆脱芯片制造上的困局，不过如果要等到2025年的话，也许我们也不需要这项技术了，因为根据之前ASML公司CEO的预测我国将在5年内攻克芯片产业链上的所有技术困局。

毕竟当下我国相关科技机构和顶尖高校在EUV光刻机光源技术上已经取得了突破性进展，相信完善国产EUV光刻机技术也会在近几年实现，届时我国将真正摆脱芯片制造能力“薄弱”的困扰，实现芯片产业链的高度自主化供应，届时挡在我国企业面前的所有芯片难题都将被突破。

不过，铠侠的纳米压印微影技术也是有可取之处的，毕竟只有在光刻环节中实现技术多元化才可以更好地打破技术垄断的局面，而没有了技术垄断，全球芯片事业的发展也才会更加顺畅。

你觉得铠侠的纳米压印微影技术能否完全取代ASML公司的EUV光刻机呢？

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