在全球半导体产业中，荷兰的ASML公司一直占据着无可争议的技术制高点。作为全球唯一能够制造EUV光刻机的企业，ASML在极紫外光刻技术领域几乎是垄断性的存在。然而，技术的领先并未为其带来应有的市场地位，反而在芯片规则不断变化、国际政治纷争日益激烈的背景下，它失去了曾经的自由出货权。尽管拥有全球顶尖的技术，但由于被美国的技术出口限制所制约，ASML在全球市场上的地位却受到了掣肘。技术上的“霸主”并未能转化为商业上的成功，反而处于一种无奈的境地——在全球科技竞争的激烈浪潮中，ASML也逐渐暴露出无法避免的“弱点”。这是现代科技市场中一个发人深省的现实：技术领先并不意味着必然的市场掌控力。
面对这些挑战，中国半导体产业迅速崛起，带来了前所未有的压力。过去三年，中国在7nm芯片制造技术上取得了令人瞩目的突破，成功实现了自主化量产。这一进展，虽然源于国家层面的巨大投入，但背后却是中国企业在技术创新和产业链自主化方面的强大执行力。随着中国在半导体技术领域的快速追赶，尤其是在高端芯片生产能力上的提升，日韩美等半导体大国的企业纷纷感受到了巨大的竞争压力。ASML是其中最早有所反应的企业之一。为了保持市场份额，它开始加快对中国市场的出货速度，在这个过程中，不得不面对美国政府施加的各种压力和技术管控，且几度出现与美国政府在政策上的对立与博弈。
然而，尽管ASML在技术上持续推进，尤其是推出了更加先进的High-NA EUV光刻机，但实际的市场需求却并不如预期。表面上看，这些新产品的出现无疑是一次技术升级的标志，仿佛为ASML打开了更广阔的市场。但深究其背后，却隐藏着不容忽视的隐忧：美国通过限制ASML的尖端光刻机出口，迫使部分顶级客户如台积电、三星等被迫延迟购买。特别是在High-NA EUV光刻机的产能问题上，美国的策略显得尤为强硬。为了确保其本土芯片制造的竞争力，英特尔被优先分配了前8台设备，而其他如台积电和三星等亚洲半导体巨头只能排队等待。这一安排不仅加剧了国际间的技术分配不平等，也反映了全球半导体市场背后暗潮汹涌的政治博弈。
美国的策略，表面上似乎为其国内半导体产业提供了一线生机，但实际效果却并不理想。为了压制台积电的技术升级步伐，避免其在芯片制造工艺上的进一步领先，美国选择了通过引导英特尔获得High-NA EUV光刻机的优先配额，来帮助其赶上台积电的步伐。然而，美国的这一“如意算盘”并未成功。英特尔虽然得到了一部分先进设备，但依然面临着技术上远远落后于台积电的困境。更为严重的是，台积电的技术迭代速度并未受到显著影响，依旧处于全球半导体产业的领先地位。这种失误不仅令美国政府感到挫败，也暴露了单纯依靠政策干预和技术封锁来控制全球技术格局的局限性。与此同时，ASML虽然在技术上不断努力推动创新，但它的市场格局却逐渐发生了微妙的变化。随着High-NA EUV光刻机的推出，原本期待这些设备能够带来更大市场份额的ASML，发现自己的最大客户——台积电，并没有展现出强烈的购买欲望。原因在于，这些新设备所带来的技术提升并不如预期那样显著，尤其是与它所需要付出的高昂成本相比，市场的反应远远低于预期。尽管三星表现出了某种购买兴趣，但由于台积电未曾表现出强烈的需求，三星也并未立刻采取实际行动。英特尔则成为了“冤大头”，不得不承担起高价购买这些设备的重担，却仍然无法在竞争中脱颖而出。这也使得ASML面临着市场饱和的风险，其技术的领先优势并未转化为长期的市场支配地位。
在这个过程中，SK海力士的态度变化也引发了广泛的关注。作为韩国的半导体巨头，SK海力士早在2019年便组建了EUV技术研发团队，但随着全球半导体市场环境的变化，SK海力士于近期宣布解散该团队，并计划将其并入技术研究院。这一决定无疑是对ASML技术路线的放弃。与三星不同，SK海力士并不拥有芯片代工业务，主要集中在存储芯片的研发与生产。由于中国半导体的崛起，SK海力士的存储芯片市场面临着越来越大的压力，继续投入巨资在高端EUV光刻机的技术研发上，似乎已经不再是明智的选择。与其将大量资源投入到不确定的技术上，不如专注于更具市场竞争力的领域，这也是它选择退出这一技术方向的根本原因。
当下，全球半导体产业正在经历一场深刻的变革。尽管EUV光刻机技术仍然是生产最先进芯片的核心技术之一，但随着7nm芯片技术逐渐成熟，市场对更高技术节点的需求逐步趋于饱和。全球许多国家和企业开始重新审视其半导体产业战略，尤其是在芯片研发和生产上，寻求更加稳妥且具备可持续性的路径。在这一背景下，如何突破现有技术瓶颈，提升现有工艺的性价比，成为企业能否持续发展、保持竞争力的关键。而半导体产业的整体降温，反而为一些新兴市场和企业提供了更多机会，能否把握住这一机遇，将直接决定未来行业的格局与发展方向。
