中国的ASML，深圳大厂官宣5nm光刻机，技术100%自主可控

3000多名高级工程师日夜奋战，深圳国资委出资并承诺5年不要求回报！如今中国的ASML终于来了！

近日上海国际半导体展（SEMICON China）的聚光灯下，一家名为“新凯来”的深圳企业甩出一枚“技术核弹”，发布覆盖半导体全流程的31款设备，其中包含命名为“峨眉山”“长白山”“阿里山”等光刻机系列，不仅技术对标ASML，更以100%国产化率打破西方垄断。通过光刻机的命名方式，许多网友已经发现了一些端倪。

当新凯来在展会上亮出“峨眉山”光刻机参数时，现场工程师的手机咔嚓咔嚓闪个不停。据悉，这台采用全固态激光技术的光刻机，绕过了ASML的专利壁垒，用晶体材料替代传统气体激发光源，不仅将设备体积缩小30%，能耗降低45%，更以1.2亿元人民币的定价，将ASML同级别36亿元的报价打成“白菜价”。

这场突围背后，是华为与新凯来的“双剑合璧”。

早在2021年，华为旗下哈勃投资便入股中科院微电子所控股的科益虹源，布局光刻机核心光源技术。如今，新凯来的研发团队中，70%核心成员来自华为海思和2012实验室，他们将通信领域积累的精密控制算法嫁接到光刻机工件台，让定位精度突破±2.5nm，甚至比ASML的±3nm更胜一筹。而“长白山”系列CVD设备的ALD模块，已能支撑5nm芯片制造，良率直追美国应用材料公司。

中科院的固态深紫外激光技术，则为这场突围补上关键一刀，传统光刻机需要氩气、氟气等稀有气体，而这些资源的供应链长期被美日企业操控。中科院团队另辟蹊径，用Yb:YAG晶体将激光波长压缩至193nm，不仅绕开技术封锁，还将光源寿命提升5倍。更绝的是，这项技术能生成携带轨道角动量的涡旋光束，未来可用于3D芯片堆叠，这正是ASML下一代EUV光刻机的研发方向。

新凯来的横空出世，正在重构全球半导体产业链。长江存储、中芯国际等企业连夜调整采购计划，仅设备成本一项，12英寸晶圆产线每年可省下200亿元。而深圳精密机械、苏州纳米城的238家配套企业，已形成从激光晶体到纳米涂层的国产化网络，让光刻机零部件自给率突破90%。

就连中东主权基金也暂停对欧洲半导体企业的投资，转而派团赴华洽谈，毕竟，中国光刻机的维护成本比ASML低30%，这对建设成本敏感的新兴市场而言，无疑是降维打击。

ASML的焦虑肉眼可见，其CEO在财报会议上紧急宣布：“将加速研发模块化光刻机以适应中国技术路线。”而东京电子则被迫将DUV设备降价15%，试图守住最后阵地。更耐人寻味的是，美国商务部悄悄放宽了对中芯国际的14nm设备出口限制，当中国手握自主可控的28nm全产业链时，封锁反而成了倒逼对手妥协的筹码。

不过，狂欢之下仍需冷思考。新凯来的光刻机平均功率仅70mW，与ASML的120W相差1700倍；不管是产能还是良品率，还需要时间精心打磨，但是至少我们实现了从中端芯片到高端芯片的过渡。正如中科院研究员所说：“我们撕开了封锁的口子，但攀登珠峰的最后500米，往往比前8000米更险峻。”

当中国光刻机以“三十分之一”的价格杀入市场，您认为ASML会选择技术开放合作，还是筑起更高的专利壁垒？欢迎在评论区分享观点。