清华的这个光刻机技术路线建成后横扫asml

我的理解是这样的：中国现在解决不了稳定的小功率对应级别的光源，比如三纳米光刻机的光源，现在直接建设一个大功率的光源总站，然后建设一个高能加速光源环形光道，光道上有N多个激光输出口，输出口输出的高能激光能加工多少纳米芯片，就在这个口建设多少纳米的光刻机，这样一个光环道根据需要可以同时建设2、3，4，5，6，7，8，9，10等等不同等级的光刻机，形成芯片生产的基地。ASML是根据光刻机需要定制光源，我们是根据光源的形成建设光刻机，反思维。网友:光源跑过来，到接口处，有各种不同的大小，根据光源实际接装匹配的光刻机，比如这个接口是5nm，但明天会不会变成7nm？？其他20nm的会不会又变成2nm？就是各个接口处的光源是持续稳定的吗？

网友:荷兰光刻机微形化，是为了便于贩卖运输，中国可以将光刻系统巨大化，我们有的是土地，只要能生产出芯片，哪怕外形是荷兰的一百倍大，只要能逮老鼠，管它是大猫还是小猫呢？

网友:我感觉没人说出原理啊……我来说说看吧。这玩意像是电子蚀刻，而不是极紫外蚀刻。原理就是用回旋加速器增加电子流的能量。而电子这种微观粒子的能量，按照普朗克的那个1/2hv^2的公式计算。能量升高意味着v升高，即频率升高，那么波长自然就会变短。（波粒二象性，你提高了电子的动能，而外在表现就是它“等效”的电磁波的频率提升、波长变短）也就是说，通过这玩意，你想要多短的波长都可以做到。这个想法确实不像是玩传统光刻机的人能想出来的，像是搞高能物理的人想出来的。