难熔高熵合金涂层制备方法
表面改性是改善材料性能,延长材料服役寿命,提升材料综合性能的方法。目前,制备难熔高熵合金涂层的方法主要包括激光熔覆、等离子熔覆、电弧喷涂、电化学沉积、物理气相沉积等。其中,以激光熔覆法最为常见。
难熔高熵合金薄膜制备方法
难熔高熵合金薄膜制备可采用普通合金薄膜的制备工艺。现有方法主要包括真空磁控溅射、热蒸发沉积、溶液快速浸覆法等。其中,真空磁控溅射作为一种典型的PVD技术,能够制备出高质量、全致密、黏附性好的薄膜。
难熔高熵合金涂层制备方法
表面改性是改善材料性能,延长材料服役寿命,提升材料综合性能的方法。目前,制备难熔高熵合金涂层的方法主要包括激光熔覆、等离子熔覆、电弧喷涂、电化学沉积、物理气相沉积等。其中,以激光熔覆法最为常见。
难熔高熵合金薄膜制备方法
难熔高熵合金薄膜制备可采用普通合金薄膜的制备工艺。现有方法主要包括真空磁控溅射、热蒸发沉积、溶液快速浸覆法等。其中,真空磁控溅射作为一种典型的PVD技术,能够制备出高质量、全致密、黏附性好的薄膜。