自从“华为断供事件”之后，越来越多的网友开始关注到了芯片话题，作为芯片制造环节中必要基础条件之一的光刻机也被大众所知晓。

中国工程院院士、微电子工艺技术专家吴汉明曾经对芯片产业作出过评价，

在吴院士看来，光刻机集成了全球科技，是全球化高精尖技术的结晶，如果让一个国家或者一个地区单独来做光刻机是不太现实的。

尤其是高端EUV光刻机，互联鱼注意到公开资料信息显示该设备一台的售价就高达一亿多美金，机器中用到的零配件多达十万多个，供应商超过5000多家，由此可见光刻机复杂程度以及制作难度之大。

所以世界范围内，能够制作光刻机的企业也只是极个别的几家，EUV光刻机只有荷兰ASML公司可以集成。不过荷兰企业在供应链份额中占少数。数据显示，光刻机里面，美国光源占了27%，德国光学系统占了14%，日本的材料占了27%，而荷兰腔体和英国真空约占32%。

目前国产光刻机方面，上海微电子集成的600系列光刻机可以满足制造分辨率为90nm及以上的光刻工艺，采用 Arf 曝光光源系统，可用于8寸和12寸晶圆的大规模生产线。

事实上，对于我们而言，造光刻机并不是唯一目的，更重要的是打造完整稳定、自主可控的芯片产业链，这是长期价值所在，更是形势所驱。近几年以来，美国单方面恶意破坏“中美关系”，从“贸易战”到如今的“科技战”，原本正常的业务节奏被美国打乱。

作为我们普通消费者，“科技战”中感受最深的便是芯片制裁了。起初是以华为公司的芯片断供为代表事件，海思团队可以设计出比肩苹果高通的高端麒麟芯片，但在芯片制造方面吃了哑巴亏。华为的高端芯片基本都是交由台积电公司代工制造的，美国为了自己的利益不让华为继续研发芯片，所以采取了断供手段。

在美国和美芯片企业的眼里，用高端芯片就购买他们的，最好是能持续性购买，如果我们自己研发他们就断供，等我们各个环节突破了他们又会开放限制来抢占市场，一贯的霸道作风。

目前中企能够量产14nm水平的芯片，于是丑国又搞事情，向“日荷”施加压力以限制他们的芯片相关企业对半导体设备进行出口管制，此举将导致“新型号”的中端DUV光刻机无法销售给国内厂商。

自从半导体限制“规则”以来，荷兰ASML公司一直保持对美芯片规则的反对意见，并多次表态美国的限制只会致使中国企业加速突破相关技术，与此同时ASML总裁表示将加大与中国厂商的合作，愿意为中国企业提供相关技术支持。

然而，

ASML总裁在访华回去之后一改往常口风表态：“我们自研光刻机技术是在破坏芯片产业链”。

ASML作为全球光刻机市场的“头号玩家”，一边表达对美国限制半导体技术的不满，一边又说我们自研光刻机是搞破坏？作为观众的角度来看，ASML可真的搞笑了，急了就急了还说得这么冠冕堂皇。自己被限制出不了货还不让别人研发了？

对目前的ASML来说，要做的就是尽一切可能争取出售光刻机，但EUV工艺的高端光刻机希望不大，毕竟以美国的尿性，除非是有了可以匹敌的竞品。

此前ASML表示计划在2025年将中端水平的DUV光刻机产能提升到600台，从这点可以看出中端光刻机设备市场仍然是供不应求的。而目前EUV光刻机的需求是下降的，最近媒体报道消息称台积电将削减40%的EUV光刻机订单。

要知道，台积电是EUV光刻机的首要客户，如今也出现四成的砍单量，这对ASML敲响了警钟。