最近，哈工大（哈尔滨工业大学）宣布了一项突破性成就，其研发的放电等离子体极紫外光刻光源项目获得了科技大赛一等奖。
这个消息在芯片圈内炸开了锅，原本“高不可攀”的芯片制造核心技术，突然间变得触手可及了。国际媒体纷纷猜测，我们国家的芯片产业正悄悄崛起，挑战全球技术霸主地位。
光刻机是什么？它是芯片制造过程中不可或缺的设备。光刻机通过用极紫外线（EUV）技术刻印芯片电路，决定了芯片的生产效率和技术水平。而目前全球最大的光刻机制造商，是荷兰的ASML公司，它一直牢牢占据着光刻机市场的“话语权”。我们国家的芯片制造，一直面临一个硬核挑战，那就是ASML的EUV光刻机。它的技术难度大、成本高，掌握这个技术的公司可不多。EUV光刻机的工艺、良率和稳定性要求非常高，想要突破这道“技术天堑”，并不容易。哈工大这次的“黑科技”是什么呢？就是他们研发出了一种新的光刻光源，放电等离子体极紫外光刻光源。这个技术的中心波长是13.5nm，能量转化率高，技术难度相比传统的EUV光源要低一些。它的成本比传统的EUV光源要低得多，体积也小，和ASML的核心光源十分相似。与此同时，长春光机所也在光刻机技术上有了突破。它们研发的激光等离子体EUV光源，和哈工大的技术路线不完全相同，但都取得了很大的进展。我们国家在光刻机的核心技术领域，已经走在了前列，形成了两条技术路线并行发展的格局。
除了光源，光刻机还有哪些关键技术呢？其实，EUV光刻机的其他核心技术，如双工件台系统、物镜、EUV多层膜等，也是极其重要的。这些技术能有效提高生产效率，精准聚焦光束，确保极紫外光的反射。我们国家的科学家们早在几年之前，就已经在这些领域取得了一些专利积累。这些技术的进展，我们有了更多的“底气”去研发自主可控的光刻机，也为国产化的进程提供了坚实的技术基础。我们离自主生产EUV光刻机越来越近，越来越有可能在未来独立完成光刻机的设计与制造。这种技术突破的意义，国际媒体看在眼里，也纷纷为我们国家的芯片产业点赞。外媒普遍认为，我们国家的芯片产业，已经在技术上迎头赶上，未来很有可能打破目前美西方技术的垄断，成为全球芯片产业的重要力量。随着这些技术的进展，全球芯片产业的格局会发生深刻变化。特别是美国和西方国家，长时间以来在光刻机技术方面的优势。谁能想到，我们国家居然能在芯片制造这一高度技术化的领域，凭借自己的努力迎头赶上？作为全球光刻机的老大，ASML面对中国的技术进步，也有点“慌了”。毕竟，之前他们可没有预料到中国在光刻机领域的快速进展。过去几十年，ASML稳坐“技术巅峰”，几乎没有什么竞争对手。现在，哈工大和长春光机所的突破，势必给它带来不小的冲击。
未来几年，随着我们国家光刻机技术的不断成熟，全球芯片产业的格局很可能发生变化。美西方的技术垄断，有可能被打破，全球芯片市场将迎来更加激烈的竞争
