芯片制造必不可少的“光刻胶”，竟然有90%都是被日本主导的，连欧美都望尘莫及。那日本在光刻胶领域的垄断，为何无一国能打破？将来如果对我们断供，那不是被拿捏住“命门”了吗？
光刻胶——半导体的“心脏”
光刻胶和普通的胶水不一样，它是一种感光材料，主要由感光树脂、增感剂和溶剂等成分混合而成。在芯片的制造过程中，硅片表面会被均匀覆盖一层光刻胶，随后利用掩膜进行曝光。没有受到光刻胶涂层保护的部分将会被蚀刻，最终待加工基片上所需要的电路图形也就形成了。
总而言之，光刻胶是光刻工艺中最重要的耗材，在光刻过程中能够起到防腐蚀的保护作用，对光刻精度极其重要，所以光刻胶也被称为半导体材料皇冠上的明珠，属于半导体制造领域一种不可或缺的重要材料。
当前，日本企业占据了全球光刻胶市场约70%~90的份额，特别是在高端的ArF和EUV光刻胶领域，市场占有率甚至超过90%，光刻胶也就成为了日本在全球半导体制造链中的绝对依仗。为何这个局面没有一个国家能打破呢？
日本光刻胶一骑绝尘
需要知道的是，光刻胶和光刻机是需要配合使用的，两者有着一定的协同效应。美国的光刻机三巨头在上个世纪80年代先后陨落，日本尼康和佳能却在同期相继崛起，成为了当时最顶级的光刻机厂商。所以自然而然，日本的光刻胶也伴随着日本的光刻机崛起了。
虽说后来如今的全球光刻机巨头荷兰企业ASML取代了日本光刻机的地位，但人家只专注于生产光刻机，并没有配套光刻胶。日本也就延续了一家独大的局面。
中国海关总署数据显示，2023年我国光刻胶进口总额为21.77亿美元，其中，从日本进口额为11.49亿美元，占比52.8%。超一半的进口量都出自日本，确实不免会让人担忧，如果日本断供我们怎么办呢？
中国光刻胶发展现状
表面上来看，光刻胶是一个定制化程度非常高的产品，如果没有下游企业的大订单需求，就完全形不成规模效应，新玩家也比较难进入。但是，中国未来成熟制程晶圆代工厂在不断扩张，对于光刻胶的研发肯定势在必行。
现在，国内多家企业在光刻胶的研发和生产上取得了一系列积极进展。比如华中科技大学武汉光电国家研究中心团队创立的太紫微公司就推出了T150A光刻胶产品，可对标国际头部企业主流KrF光刻胶系列。厦门恒坤自主研发的KrF、ArF光刻胶也通过了大厂的验证并实现了产业化。
总而言之，目前中国的光刻胶产业正处于不断摸索、稳步上升的阶段，未来形成一定的规模后，就能彻底摆脱被垄断的命运了。
参考文献：
[1] 郑金红.光刻胶的发展及应用[C]//2006全国电子化学品发展研讨会.2006
[2] 日本光刻胶市场地位：是否真的坚不可摧——中国电子报
[3] 国产光刻胶，破冰前行——半导体观察
