氩离子抛光仪

利用氩离子抛光技术，通过离子束对样品表面进行削平抛光处理，以便利用扫描电镜等显微观察工具观察样品表面的微观特征。

抛光仪的原理

氩离子抛光技术是一种先进的样品表面处理方法，广泛应用于材料科学领域。该技术通过精确控制氩离子的作用，能够有效去除样品表面的损伤层，从而获得高质量的样品，这对于后续的成像和分析至关重要。

在扫描电镜（SEM）、光学显微镜、扫描探针显微镜等设备上，高质量的样品表面是进行成像和分析的基础。氩离子抛光技术通过调整电压、电流、离子枪的角度和离子束窗口等参数，能够精确控制氩离子作用的深度和强度。这种精细的控制不仅能够确保样品表面的光滑度，还能最大限度地减少对样品内部结构的损伤，从而真实地反映材料的内部特征。

针对不同硬度的样品，技术人员需要根据样品的特性调整相应的抛光参数。例如，对于较硬的材料，可能需要较高的电压和电流来确保足够的抛光效果；而对于较软的材料，则需要降低电压和电流，以避免过度抛光导致样品损坏。通过这些精细的调整，技术人员能够制备出理想的材料样品。

使用氩离子抛光技术处理后的样品，不仅表面光滑无损伤，还能够清晰地展示材料内部的真实结构。例如，在扫描电镜下放大到10K倍时，页岩内部的细微孔隙可以清晰可见，材料内部的不同物质分层也能被明显区分。这种高清晰度的成像对于研究材料的微观结构和性质具有重要意义。

此外，氩离子抛光技术还可以与其他分析技术如能量色散X射线光谱（EDS）、电子背散射衍射（EBSD）、阴极发光（CL）、电子束诱导电流（EBIC）等结合使用，进一步提升材料分析的准确性和深度。通过这些技术的结合，研究人员能够更全面地了解材料的组成、结构和性能，为材料的开发和应用提供科学依据。

总之，氩离子抛光技术在材料科学中的应用不仅提升了样品的表面质量，还为深入研究材料的内部结构和性能提供了强有力的支持。

切割和抛光两项功能

1、配温控液氮冷却台，去除热效应对样品的损伤，有助于避免抛光过程中产生的热量而导致的样品融化或者结构变化。

2、配碳/铬镀膜，对于同一个样品，可在同一真空环境下完成抛光及镀膜，防止样品氧化，可以用于SEM/FIB导电镀膜样品制作。

制样时的突出优点：

1、对由硬材料和软材料组成的复合材料样品,能够很精细地制作软硬接合部的截面,而使用传统方法制样是很困难的。

2、比FIB方法的抛光面积更大(~1mm以上)。氩离子抛光仪可以运用于各种材料样品(除了液态)的制备，适应大多数材料类型，对大面积、表面或辐照及能量敏感样品尤佳：钢铁、地质、油页岩、锂离子电池、光伏材料、薄膜、半导体、EBSD、生物材料等包括平面抛光与截面抛光。