中美科技博弈持续升温，美国封锁这几年，对中国技术自主来说，没有失败，只有进步。过去太依赖先进国的技术商业转让和授权，把世界想象得太好，半导体全产业链下各环节的自主可控进度，其实很慢。

自2018年以来，美国对中国的科技封锁可以说是空前绝后，多轮的封锁措施直接导致其半导体行业的发展受阻，国际社会也开始对美国这种“科技霸凌”的行为产生质疑。先进技术和技术升级不可能从天上掉下来，是通过发达市场培育下的产业优势不断迭代出来的。连着两任美国政府对华封锁，实际是用牺牲市场的代价，限制中国半导体技术向高端升级。

在这个僵持阶段，刚开始美国或许是“八百”，中国是“一千”，但随着电动汽车以及新能源产业的崛起，谁是“八百”，谁是“一千”，还不能过早下结论。而中美之间的科技博弈可以说是持续不断，如果中国能够成功突围，掌握核心技术的话，那么将会引发一轮新的“内卷”浪潮，而这一点美国显然是不愿意看到的。

虽然美国对中国的封锁看起来非常坚决，但我们也看到了一些迹象，美国国内对于这种封锁的态度并没有那么一致，一些美国企业就公开表示反对，因为他们深知这种封锁对美国自身造成的影响，尤其是在半导体领域，美国企业想要做大做强，必须得依靠中国的市场。

而荷兰作为全球光刻机技术最为先进的国家，其市场当中，中国的占比可以说相当可观，据悉高达30%以上，而ASML更是光刻机领域的绝对霸主，其市场份额更是高达90%以上。我们都知道，光刻机是芯片制造和半导体生产当中的核心装备，奈何光刻机的生产一直掌握在日本、美国等发达国家的少数厂家手中。

我国几次想引进ASML光刻机，但都被美国百般阻拦，没有光刻机，导致我国一直在芯片行业受制于人。国产化之路，势在必行！功夫不负有心人，2018年经过艰苦研究，终于研发了“世界上首台分辨力最高的“紫外超分辨光刻装备”，单次曝光最高线宽分辨力达到 22 纳米。

虽然这台光刻机使用的是365纳米的波长光源，但是后期通过改进，结合双重曝光技术，使用波长越来越短的光源，未来还是有可能制造出10nm、7nm，甚至是5nm的产品的。这个技术在当时已经算是相当不错了。

虽然，国产光刻机离目前最先进的技术还有十几年的距离，但是通过逆向研发，已经基本可以实现60%—70%的国产化。这对于打破了国外在高端光刻装备领域的垄断，是具有非凡意义的

然而荷兰却在2023年3月8日的时候宣布了对部分光刻机出口实施管制，这一举动几乎可以用“急刹车”来形容，在美国压力与中国市场诱惑之间，摇摆的荷兰终于做出了选择，虽然荷兰方面表示此举是为了保护国家安全，但几乎所有人都知道，这个国家安全指的就是美国的国家安全。

虽然荷兰有着全球90%以上的光刻机市场份额，但是中国却不是好惹的，在半导体技术上面，中国已经形成了一套完整的产业链，并且逐渐掌握了核心技术，荷兰如果一味地向美国低头，很有可能会失去中国这个重要客户，而失去客户，对于任何企业来说都是致命的。

ASML作为荷兰最大的企业，如果失去中国这个市场，那么未来恐怕很难再有今天这样的辉煌，因为其他国家根本无法替代中国给它带来的收益。

而中国也不会坐以待毙，自主研发光刻机的成功已经给它带来了巨大的信心，而且从整个半导体产业链来看，它已经基本上掌握了除光刻机以外的大部分核心技术，如果光刻机也能成功攻克的话，那么接下来便是一个飞跃式的发展，彻底甩开美国几条街。荷兰如果真的彻底站在美国这一边的话，那么很有可能会面临失去市场与失去技术两个方面的压力。

中国产业要技术有技术，要内卷有内卷，反过来将会极大促进中国半导体生态循环从低向高突破。最后是结论，中美间的技术差距，只是追赶时间快慢问题。