据印度媒体报道，当地在2021年底实施一个半导体初始激励方案，一个近100亿美元的新半导体计划正在冉冉升起。按照规划，印度当局以最大限度地提高其生产力度，打造唯一一家完整工业级设备和基础设施生产产线的半导体芯片厂商，有望超越中国对标欧美最先进的企业。
面对印度的雄心勃勃，有业内专家揭秘其光刻扫描仪技术似乎并不先进，最小特征水平将需要具有KrF激光，波长为248nm，最高能生产180nm芯片晶圆。
而作为对比，三星上个月已经量产3nm工艺制程，二者之间的差距貌似有点大，实在搞不清楚印度所谓的“对标欧美”是指差距在60倍左右就算拉平了吗？令人可笑。
